ドライエッチング（した）～の英語

フォトマスク基板１１の一方主面に、酸素含有の塩素系ドライエッチング（（Ｃｌ＋Ｏ）系ドライエッチング）では実質的なエッチングがされず、かつ酸素非含有の塩素系ドライエッチング（Ｃｌ系ドライエッチング）およびフッ素系ドライエッチング（Ｆ系ドライエッチング）でエッチングが可能な金属膜が遮光層１２として備えられている。例文帳に追加

A photomask substrate 11 has, on one principal face, a metal film as a light shielding layer 12 which can not be substantially etched by chlorine-based dry etching containing oxygen ((Cl+O)-based dry etching) but can be etched by chlorine-based dry etching containing no oxygen (Cl-based dry etching) and by fluorine-based dry etching (F-based dry etching). - 特許庁

ドライエッチング処理毎にクリーニング処理を実施して、ドライエッチング処理時に形成された膜を除去する。例文帳に追加

To remove a film formed at dry etching process by cleaning in every dry etching process. - 特許庁

前記ドライエッチング処理は、例えば酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理である。例文帳に追加

The dry etching process is carried out by using a chlorine-based gas substantially containing no oxygen. - 特許庁

ドライエッチング排ガス処理装置及び当該処理装置を用いたドライエッチング排ガス処理方法例文帳に追加

DRY ETCHING EXHAUST GAS TREATING DEVICE AND METHOD FOR TREATING DRY ETCHING EXHAUST GAS USING TREATING DEVICE - 特許庁

遮光膜のドライエッチング速度を高めることで、ドライエッチング時間が短縮でき、レジスト膜の膜減りを低減する。例文帳に追加

To shorten a dry etching time and to decrease film reduction in a resist film by increasing the dry etching rate of a light shielding film. - 特許庁

ドライエッチング用複合体、ドライエッチング製品の形成方法及び液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法例文帳に追加

COMPOSITE BODY FOR DRY ETCHING, METHOD FOR FORMING DRY ETCHING PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING NOZZLE PLATE FOR LIQUID DISCHARGE HEAD - 特許庁

ドライエッチング方法、ドライエッチング装置、半導体発光素子の製造方法及び表示装置の製造方法例文帳に追加

DRY-ETCHING METHOD, DRY-ETCHING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE - 特許庁

ドライエッチング耐性の向上したレジストパターンを形成する方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING RESIST PATTERN WITH IMPROVED DRY- ETCHING STRENGTH - 特許庁