dry-etched～の英語

The photomask blank includes a chromium-free film 14 which can be etched by fluorine-based dry etching as well as by oxygen-containing chlorine-based dry etching, layered on a light-shielding film 13 containing chromium, which in turn cannot be substantially etched by fluorine-based dry etching but etched by oxygen-containing chlorine-based dry etching.例文帳に追加

フッ素系ドライエッチングでは実質的なエッチングがされず且つ酸素含有塩素系ドライエッチングでエッチングが可能なクロムを含む遮光膜１３の上に、フッ素系ドライエッチング且つ酸素含有塩素系ドライエッチングでエッチングが可能なクロムを含まない膜１４が積層される。 - 特許庁

The polysilicon film 3 is selectively dry-etched or wet-etched so as to form a polysilicon island 3I.例文帳に追加

その後、ポリシリコン膜３を選択的にドライエッチングまたはウエットエッチングしてポリシリコン・アイランド３Ｉを形成する。 - 特許庁

To prevent a lift-off of an organic mask when a film of silicon oxide or the like to be etched is partially dry-etched.例文帳に追加

酸化シリコンなどの被エッチング膜を部分的にドライエッチングする際、有機マスクのリフトオフを防止する。 - 特許庁

Then, the polysilicon film 22 and the barrier metal film 21 are dry-etched to selectively be removed.例文帳に追加

次に、ポリシリコン膜２２及びバリアメタル膜２１をドライエッチングして選択的に除去する。 - 特許庁

Then, the semiconductor layer part is etched 0.2 μm by dry-etching.例文帳に追加

そして、ドライエッチングにより半導体層部分を約０．２μｍエッチングする。 - 特許庁

A silicon substrate 1 is over-etched about 5 to 20 nm by anisotropic dry-etching.例文帳に追加

異方性のドライエッチングにより、シリコン基板１が５nm〜２０nm程度オーバエッチングされる。 - 特許庁

After that, the GaN layer 2 is dry-etched using the USG film 3 as a mask.例文帳に追加

その後、ＵＳＧ膜３をマスクとしてＧａＮ層２をドライエッチングした。 - 特許庁

Then with the patterned film as a mask, the semiconductor laminate structure is dry-etched.例文帳に追加

続いて、パターニングされた被膜をマスクとして、半導体積層構造をドライエッチングする。 - 特許庁