dry etchとは 意味・読み方・使い方

To etch an InP layer by a dry etching method in a more stable state without inviting a rise in the cost.例文帳に追加

コストの上昇を招くことなく、より安定した状態でＩｎＰの層がドライエッチング法によりエッチングできるようにする。 - 特許庁

To provide a dry etching device which can etch substrates to be processed in various shapes, based on a satisfactory interface uniformity.例文帳に追加

各種形状の被処理基板を良好な面内均一性のもとでエッチング処理することができるドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To pattern a film of transition metal which is difficult to dry etch so that side etching is minimized.例文帳に追加

ドライエッチングが困難な遷移金属の膜を、サイドエッチングが極力生じないようにパターニングする。 - 特許庁

To accurately form a metal wiring pattern, even when a metal wiring material which is difficult to dry-etch is used.例文帳に追加

ドライエッチングが困難な金属配線材料を用いた場合であってもて、金属配線パターンを精度良く形成する。 - 特許庁

Next, each of the glass substrate 10, 20, 30 on which the dry film is applied is placed on a stage 106 of a dry etching device 100 to dry-etch the wall surface portion of the groove.例文帳に追加

次に、ドライフィルムを貼り付けた状態でガラス基板１０，２０，３０をドライエッチング装置１００のステージ１０６に載置し、溝の壁面部分をドライエッチングする。 - 特許庁

A single crystal sapphire substrate having etch pits that is suitable for a semiconductor light emitting device is manufactured by conducting dry or wet blasting on a mirror-polished principal plane of the sapphire substrate, and then dipping the sapphire substrate into heat phosphoric acid, a mixed acid of heat phosphoric acid and heat sulfuric acid, or heat-melt potassium hydroxide to form etch pits.例文帳に追加

鏡面研磨を行った主面に乾式または湿式のブラスト加工を施した後、熱リン酸または熱リン酸と熱硫酸の混酸または熱溶融水酸化カリウム中に浸漬し、エッチピットを有する半導体発光素子に適した単結晶サファイア基板を作製する。 - 特許庁

A dry-etching gas composition is composed of carbon tetrachloride gas and nitrogen gas, so as to etch back polysilicon and a silicon oxide at the same time at the same rate.例文帳に追加

ドライエッチング用ガス組成物は、ポリシリコンとシリコン酸化物とを実質的に同一であるエッチング速度で同時にエッチバックするために四フッ化炭素ガスと窒素ガスとで構成されることを特徴とする。 - 特許庁

To effectively dry-etch a silicon compound film such as a nitride silicon nitride film and an amorphous silicon film without using gas such as SF6 which may cause global warming.例文帳に追加

ＳＦ6等の地球温暖化の一因となるガスを用いずに、窒化シリコン膜、アモルファスシリコン膜等のシリコン化合物膜を良好にドライエッチングする。 - 特許庁