ビーム照射不均一の英語

本発明は、予備照射領域内に異なる複数の材質が含まれていたり、予備照射領域内のパターンの密集度が位置によって異なるような試料であっても、帯電の不均一さを抑制することが可能な荷電粒子ビーム照射方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a charged particle beam irradiation method and a charged particle beam device, capable of restraining unevenness in electrostatic charge, even if a sample contains a plurality of different materials, in a pre-dosing area or the sample contains density of patterns in the pre-dosing area which is different for different positions. - 特許庁

ビーム７の位置や強度を検出するためのビーム検出部材２であって、ビーム７が照射されるビーム照射部６が、ホウ素（Ｂ）を平均１０〜１５０ｐｐｍ含む多結晶ダイヤモンド膜４からなり、この多結晶ダイヤモンド４中のホウ素（Ｂ）濃度は、前記多結晶ダイヤモンド４の膜厚方向に不均一な濃度分布を持つ。例文帳に追加

In the beam detection member 2 for detecting the position or the intensity of a beam 7, a beam irradiation part 6 for irradiating the beam 7 comprises a polycrystal diamond film 4 containing boron (B) averagely 10-150 ppm, and the boron (B) concentration in the polycrystal diamond 4 has an uneven concentration distribution in the film thickness direction of the polycrystal diamond film 4. - 特許庁

本発明の不均一イオン注入装置は、ウエハの全体領域のうち少なくとも２箇所以上の複数の領域にそれぞれ重なる複数のワイドイオンビームからなるワイドイオンビームを形成するワイドイオンビーム生成器と、ワイドイオンビーム生成器により形成されたワイドイオンビームが照射される間に、ウエハを一定方向に回転させるウエハ回転装置と、を備える。例文帳に追加

The inhomogenous ion injection device includes a wide ion beam generator which forms wide ion beams composed of a plurality of wide ion beams overlapping respectively on a plurality of regions of at least two places or more out of the total regions of a wafer, and a wafer rotating device which rotates the wafer in a fixed direction while the wide ion beams formed by the wide ion generator are irradiated. - 特許庁

被照射面におけるビームスポットのエネルギー分布の不均一性の原因は、光学系を構成するシリンドリカルレンズアレイの構造的な問題及び製作精度にある。例文帳に追加

To solve the problem wherein structural problems and manufacturing accuracy of a cylindrical lens arrays constituting an optical system cause ununiformity of the energy distribution of the beam spot on the surface to be irradiated. - 特許庁

強度測定器具の間の誤差やレーザ光学系の熱的不安定さに起因して生じるレーザ光学系の照射ビーム間の強度の偏差等を吸収して、均一性の極めて高いアニール処理結果を実現できるようにする。例文帳に追加

To actualize an annealing treatment result of extremely high uniformity by absorbing deviation in strength between the irradiation beams of a laser optical system caused by errors of strength measuring instruments and thermal instability of the laser optical system. - 特許庁

第２の光源は、感光ドラム４の表面の感度のむらによる帯電電位特性の不均一性を低減するための補正値に応じた駆動電流によってレーザビームを感光ドラム４に照射する。例文帳に追加

The second light source irradiates the photosensitive drum 4 with a laser beam in accordance with a drive current corresponding to a correction value according to which the unevenness of charge potential characteristics caused by the unevenness of the sensitivity of the surface of the photosensitive drum 4 is reduced. - 特許庁

矩形状ビームに集光されたレーザ光の照射部分をその長軸方向に不活性ガスにより均一にパージすることによってアニール効果のばらつきを大幅に低減する。例文帳に追加

To significantly reduce variation of anneal effects by uniformly purging an irradiation part by a laser beam converged into a rectangular beam with an inert gas in a longitudinal direction. - 特許庁

レーザービームを利用して非晶質シリコン膜を結晶化する時、レーザービームが何度も照射される部分には不均一な結晶領域が生じるが、このような領域を液晶表示装置の画素領域に配置する場合画質を低下する問題がある。例文帳に追加

Unevenly crystallized regions are formed at locations repeatedly exposed to a laser beam in a process of laser-aided crystallization of an amorphous silicon film, and then a problem arises that such regions deteriorate picture quality when arranged in the pixel area of a liquid crystal display. - 特許庁