「ビーム照射不均一」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

割断は最大応力位置で発生するが、同位置がかならずしもレーザビーム照射位置に一致せず、ガラス板内部における不均一熱伝導の影響によって照射位置からずれてしまう。例文帳に追加

Although cutting occurs at a position where the thermal stress is maximum, the position does not necessarily coincide with the position irradiated with the laser beam, and deviates from the irradiation position by the influence of nonuniform thermal conduction at the inside of a glass plate. - 特許庁

イオンビームの照射方向に対して傾斜した状態で基板を走査した場合であっても、イオンビームの濃度が基板の表面内において不均一となることを抑制する。例文帳に追加

To provide an ion beam irradiation device which restrains the density of an ion beam from becoming uneven on a surface of a base plate even when the base plate is scanned in a state of slanted against ion beam irradiation direction. - 特許庁

本発明は、予備照射領域内に異なる複数の材質が含まれていたり、予備照射領域内のパターンの密集度が位置によって異なるような試料であっても、帯電の不均一さを抑制することが可能な荷電粒子ビーム照射方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a charged particle beam irradiation method and a charged particle beam device, capable of restraining unevenness in electrostatic charge, even if a sample contains a plurality of different materials, in a pre-dosing area or the sample contains density of patterns in the pre-dosing area which is different for different positions. - 特許庁

ビーム７の位置や強度を検出するためのビーム検出部材２であって、ビーム７が照射されるビーム照射部６が、ホウ素（Ｂ）を平均１０〜１５０ｐｐｍ含む多結晶ダイヤモンド膜４からなり、この多結晶ダイヤモンド４中のホウ素（Ｂ）濃度は、前記多結晶ダイヤモンド４の膜厚方向に不均一な濃度分布を持つ。例文帳に追加

In the beam detection member 2 for detecting the position or the intensity of a beam 7, a beam irradiation part 6 for irradiating the beam 7 comprises a polycrystal diamond film 4 containing boron (B) averagely 10-150 ppm, and the boron (B) concentration in the polycrystal diamond 4 has an uneven concentration distribution in the film thickness direction of the polycrystal diamond film 4. - 特許庁

本発明の不均一イオン注入装置は、ウエハの全体領域のうち少なくとも２箇所以上の複数の領域にそれぞれ重なる複数のワイドイオンビームからなるワイドイオンビームを形成するワイドイオンビーム生成器と、ワイドイオンビーム生成器により形成されたワイドイオンビームが照射される間に、ウエハを一定方向に回転させるウエハ回転装置と、を備える。例文帳に追加

The inhomogenous ion injection device includes a wide ion beam generator which forms wide ion beams composed of a plurality of wide ion beams overlapping respectively on a plurality of regions of at least two places or more out of the total regions of a wafer, and a wafer rotating device which rotates the wafer in a fixed direction while the wide ion beams formed by the wide ion generator are irradiated. - 特許庁

被照射面におけるビームスポットのエネルギー分布の不均一性の原因は、光学系を構成するシリンドリカルレンズアレイの構造的な問題及び製作精度にある。例文帳に追加

To solve the problem wherein structural problems and manufacturing accuracy of a cylindrical lens arrays constituting an optical system cause ununiformity of the energy distribution of the beam spot on the surface to be irradiated. - 特許庁

強度測定器具の間の誤差やレーザ光学系の熱的不安定さに起因して生じるレーザ光学系の照射ビーム間の強度の偏差等を吸収して、均一性の極めて高いアニール処理結果を実現できるようにする。例文帳に追加

To actualize an annealing treatment result of extremely high uniformity by absorbing deviation in strength between the irradiation beams of a laser optical system caused by errors of strength measuring instruments and thermal instability of the laser optical system. - 特許庁

第２の光源は、感光ドラム４の表面の感度のむらによる帯電電位特性の不均一性を低減するための補正値に応じた駆動電流によってレーザビームを感光ドラム４に照射する。例文帳に追加

The second light source irradiates the photosensitive drum 4 with a laser beam in accordance with a drive current corresponding to a correction value according to which the unevenness of charge potential characteristics caused by the unevenness of the sensitivity of the surface of the photosensitive drum 4 is reduced. - 特許庁

矩形状ビームに集光されたレーザ光の照射部分をその長軸方向に不活性ガスにより均一にパージすることによってアニール効果のばらつきを大幅に低減する。例文帳に追加

To significantly reduce variation of anneal effects by uniformly purging an irradiation part by a laser beam converged into a rectangular beam with an inert gas in a longitudinal direction. - 特許庁

レーザービームを利用して非晶質シリコン膜を結晶化する時、レーザービームが何度も照射される部分には不均一な結晶領域が生じるが、このような領域を液晶表示装置の画素領域に配置する場合画質を低下する問題がある。例文帳に追加

Unevenly crystallized regions are formed at locations repeatedly exposed to a laser beam in a process of laser-aided crystallization of an amorphous silicon film, and then a problem arises that such regions deteriorate picture quality when arranged in the pixel area of a liquid crystal display. - 特許庁

アレイ構成で配設された複数の半導体ダイオードレーザバーにより構成されるダイオードポンプアレイ１００から出射する不均一な光強度プロファイルを持つレーザビームを、回折型ホモジナイザ４１０を通過させることで均一化し利得媒体４２０に照射する。例文帳に追加

In a diode laser array homogenization system, a laser beam having an uneven light intensity profile emitted from a diode pump array 100 constituted with a plurality of semiconductor diode laser bars disposed with an array configuration is homogenized by making it pass through a diffraction type homogenizer 410 to radiate it on a gain medium 420. - 特許庁

ホログラムでビームを分割し、被照射部、またはパターンマスク上で重畳して光強度を均一化する際に、０次光成分が強く発生し不均一な光強度分布となることを防止し、高品質、高精度な加工を達成する。例文帳に追加

To achieve processing of high quality and high precision by preventing a light component of 0th order from being generated strongly to form an uneven light intensity distribution when a beam is split by a hologram and put one over the other on an irradiated part or pattern mask to make the light intensity uniform. - 特許庁

絶縁物試料を荷電粒子線にて観察する際に発生する帯電によって、試料表面電位が荷電粒子線照射領域面内で不均一となることで生じる電位勾配により該荷電粒子線の軌道が偏向されるビームドリフトを低減する。例文帳に追加

To reduce a beam drift deflecting an orbit of charged particles by a potential gradient generated by unevenness of the potential on the surface of a sample in a face of a charged particle beam irradiation area generated by electrification generated when an insulated sample is observed by the charged particle beams. - 特許庁

記録媒体に照射されるビーム光の光量の不均一を改善したオーバフィル型の光走査装置において、レーザダイオードから出射される光を効率よく使用できるようにして低出力のレーザを使用可能にし、安価でかつ信頼性の高い光走査装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive and highly reliable optical scanning device where light emitted from a laser diode can efficiently be used and the laser of low output can be used in an over fill-type optical scanning device where the non-uniformity of the light quantity of beam light with which a recording medium is irradiated. - 特許庁

成膜室内において循環搬送装置内に充填された蒸着材料にビームを照射して蒸発させて基板面上に膜を形成する成膜方法において、蒸着の不均一による膜厚ムラの低減、及び、小片蒸着材料・スプラッシュによる歩留まり低下の防止を実現できる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique capable of reducing the unevenness of film thickness caused by the unevenness of vapor deposition and preventing a yield from lowering caused by a fine vapor deposition material and splashes in a film deposition method by which a vapor deposition material packed into a circular conveyor is irradiated with a beam and is evaporated to deposit a film in a film deposition chamber. - 特許庁