フロロカーボンの英語

続いて、得られた本体部１０１の表面に、静電粉体塗装によって、フロロカーボン膜１０２を形成する。例文帳に追加

Then, a fluorocarbon film 102 is formed on the surface of the obtained main body part 101 by electrostatic powder coating. - 特許庁

次に、フロロカーボン系のガスを使用して、サイドウォール絶縁膜およびシリコン酸化膜にドライエッチングが施される。例文帳に追加

Then the side-wall insulating films and a silicon oxide film are subjected to dry etching by using fluorocarbon-based gas. - 特許庁

次に、前記第３の絶縁膜を貫通するコンタクト孔をフロロカーボン系のガスを用いたプラズマエッチングで形成する。例文帳に追加

A contact hole penetrating the third insulation film is formed by plasma etching with a fluorocarbon based gas. - 特許庁

その後のシリコン窒化膜１０３のエッチング時にＳｉＨ_４ と酸素とフロロカーボンを含むガスでエッチングを行う。例文帳に追加

Then, etching is carried out by gas containing SiH_4 and oxygen and phloro-carbon when the silicon nitride film 103 is etched. - 特許庁

フロロカーボン系プラズマ生成用シリコン製電極の洗浄方法およびこれを利用した半導体装置の製造方法例文帳に追加

CLEANING METHOD OF SILICON ELECTRODE FOR FLUOROCARBON- BASED PLASMA GENERATION, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

フロロカーボン膜の堆積を防ぐとともに、Ｓｉ基板等への汚染物の堆積を防いで漏れ電流を低減ことを課題とする。例文帳に追加

To avoid depositing a fluorocarbon film and depositing contaminants on an Si substrate, etc., to reduce the leakage current. - 特許庁

フロロカーボン等の化学繊維で形成されたテーパライン１０の先端側に偏った位置にくびれ部１１を設けた。例文帳に追加

This tapered line is obtained by forming a constricted part 11 at the position one-sided to the tip part of a tapered line 10 formed out of a chemical fiber such as a fluorocarbon. - 特許庁

フロロカーボン被膜の製造方法、それを用いた工業材料又は工業製品並びに、その工業材料を用いた装置例文帳に追加

METHOD OF PRODUCING FLUOROCARBON FILM, INDUSTRIAL MATERIAL OR INDUSTRIAL PRODUCT USING THE SAME, AND DEVICE USING THE INDUSTRIAL MATERIAL - 特許庁