プラズマガス化の英語

非キーホール溶接状態と、キーホール溶接状態とを周期的に変化させるプラズマアーク溶接方法であって、プラズマガスの流量を制御して非キーホール溶接状態とし、非キーホール溶接状態時のプラズマガスに添加用プラズマガスを周期的に供給することにより、プラズマガスの圧力を瞬間的に大きくしてキーホール溶接状態とすることを特徴とするプラズマアーク溶接方法である。例文帳に追加

This invention relates to the plasma arc welding method in which a non-keyhole welding state and a keyhole welding state are periodically changed, wherein a flow rate of plasma gas is controlled to turn into non-keyhole welding state and, by periodically supplying plasma gas for addition to the plasma gas at the time of being in the non-keyhole welding state, the pressure of the plasma gas is instantaneously increased to turn into the keyhole welding state. - 特許庁

プラズマガスは、水素を含むか、あるいは水素／ヘリウム混合物、あるいはＮＦ_3／ヘリウム、ＣＦ_4／ヘリウム、ＳＦ_6／ヘリウムなどのような過フッ化炭化水素／ヘリウム混合物を含むことが望ましい。例文帳に追加

The plasma gas preferably contains hydrogen or hydrogen-helium mixture or a perfluorocarbon-helium mixture, such as NF3-helium, CF4-helium, SF6-helium, etc. - 特許庁

プラズマガス生成部８でプラズマ化したクリーニングガスをチャンバ２内に導入して、チャンバ２の内壁や電極などに形成された不要な膜の除去を行う。例文帳に追加

A cleaning gas converted into plasma in a plasma gas generator 8 is introduced into a chamber 2 to remove an unnecessary film deposited over the interior wall of the chamber 2 or electrodes. - 特許庁

対向する電極１２間の放電空間を通過するガスをプラズマ化し、得られたプラズマガスを繊維紡糸用ノズル１４に接触させる工程を有することを特徴とする繊維紡糸用ノズル１４の洗浄方法。例文帳に追加

The method for cleaning the nozzle 14 for spinning the fibers has a process for converting a gas passing through a discharge space between mutually facing electrodes 12 to a plasma gas, and then bringing the obtained plasma gas into contact with the nozzle 14 for spinning the fibers. - 特許庁

本発明は、本発明は、プラズマガス耐性、高熱伝導を有し、優れた光学特性を有する窒化アルミニウム焼結体を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide an aluminum nitride sintered compact having plasma gas resistance and high thermal conductivity and excellent optical properties. - 特許庁

スパッタリング室１１内にボンベ１８からアルゴンなどのプラズマガスを流し、スパッタリング室１１内に配置されたターゲット１２からガラス基板１５に酸化物透明導電膜材料をスパッタリングする。例文帳に追加

A plasma gas such as argon is made to flow from a bomb 18 into a sputtering room 11, and an oxide transparent conductive film material is sputtered on a glass substrate 15 from a target 12 arranged in the sputtering room 11. - 特許庁

大気圧プラズマ処理は、^-Ｈｅ＋Ｏ_2 プラズマガス雰囲気により、図示しないが、Ａｌパッド表面上に付着した自然酸化膜を含む有機物やパーティクルなどが除去される。例文帳に追加

By the atmospheric pressure plasma treatment, organic matters or particles which includes a natural oxide film attaching to the surfaces of the Al pads are removed in a -He+O2 plasmas gas atmosphere, even though this is not shown. - 特許庁

一酸化炭素ガスは、１桁以上低密度のプラズマ領域１３に導入されるので、高温・高密度のプラズマガスによる衝突を受けることが少なく、解離する前に基板２の上に運ばれる。例文帳に追加

Since carbon monoxide gas is introduced into the plasma region 13 which is 1/10 or less as low in plasma density as the high-density plasma region 12, it is less hit by the high-temperature high-density plasma and carried onto the substrate 2 before it is dissociated. - 特許庁