主磨造の英語

円盤状のガラス基板１の主表面を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する製造方法において、ガラス基板１の両主表面に、アスカーＣ硬度が８８以上の研磨テープ１２を押圧し、研磨材を含む研磨液を供給しながら、ガラス基板１と研磨テープ１２とを相対的に移動させて研磨を行うことを特徴とする。例文帳に追加

The method of manufacturing the glass substrate for the magnetic disk by polishing the principal surface of the disk like glass substrate 1 is characterized in that polishing is performed by pressing a polishing tape 12 having Asker C hardness of ≥88 to both principal surfaces of the glass substrate 1 and relatively moving the glass substrate 1 and the polishing tape 12 while supplying a polishing liquid containing an abrasive. - 特許庁

磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk which uses a polishing agent more excellent in that the polishing agent makes a main surface of a glass substrate for a magnetic disk flat and generation of scratches on the main surface is suppressed than cerium oxide that is conventionally used as the polishing agent for polishing the main surface. - 特許庁

生産性を損なうことなく、研磨パッドの研磨面を所定の平坦度と表面粗さに調整する研磨パッドのドレス処理と、該ドレス処理で調整した研磨パッドを用いてガラス基板の主平面を研磨するガラス基板の研磨方法及び該研磨方法を用いたガラス基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a dressing of a polishing pad for adjusting a polishing surface of the polishing pad to prescribed flatness and surface roughness, a method for polishing a glass substrate for polishing a main plane of the glass substrate by using the polishing pad adjusted in the dressing, and a method for manufacturing the glass substrate using the method for polishing the glass substrate, without impairing productivity. - 特許庁

複数の研磨用の３次元形状の研磨材複合材料(１２)がその固定位置に配置された主要面(１６)を有するシート状構造を有する研磨材製品(１０)が、提供される。例文帳に追加

The abrasive article (10) having a sheet-like structure where a plurality of 3-dimensional shaped abrasive composite materials (12) for polishing have a main surface (16) arranged at the fixed position. - 特許庁

主に半導体、各種メモリーハードディスク用基板等の研磨パッドにおいて、研磨性能に優れ、溝の付いた研磨用発泡体を効率良く安定に製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently and stably manufacturing a grooved grinding foam excellent ingrinding capacity, in a grinding pad mainly adapted to a semiconductor, a substrate for a memory hard disk of every kind and the like. - 特許庁

主に鍛造、球状化焼なまし、トリミング、研磨加工、転造、熱処理、表面処理等の製造工程を含む。例文帳に追加

The method includes a manufacturing process of mainly forging, spheroidizing, trimming, polishing, rolling, heat treatment and surface treatment. - 特許庁

ガラス基板は、ガラス素板の主表面を研磨パッドで研磨し、その主表面の微小うねりの高さ（ＮＲａ）を０．１２ｎｍ以下とすることで製造されている。例文帳に追加

The glass substrate is manufactured by polishing the main surface of substrates by a polishing pad, and setting height (NRa) of minute undulation on the main surface to 0.12 nm or less. - 特許庁

第１の研磨（粗研磨）工程にて使用した、希土類酸化物を主成分とする研磨材を、洗浄によって効果的に除去しつつ、洗浄によるエッチングが、第２の研磨（鏡面研磨）工程後の最終的なガラス基板主表面の平滑性にも影響を与えない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a glass substrate for a magnetic disk by which etching by washing does not give influence on the smoothness of a final glass substrate principal surface after a second polishing (mirror-surface polishing) step while an abrasive used in a first polishing (coarsely polishing) step and consisting essentially of a rare earth oxide is effectively removed by washing. - 特許庁