低圧プラズマの英語

低圧高密度プラズマ曝露に対しても十分耐える耐プラズマ性部材およびその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a plasma resistant member which sufficiently withstands exposure of a low-pressure high-density plasma, and a method for manufacturing the same. - 特許庁

低圧高密度プラズマ曝露に対して、十分耐える耐プラズマ性部材及びその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a plasma resistant member which sufficiently withstands low-pressure, high-density plasma exposure, and to provide a production method therefor. - 特許庁

低圧高密度プラズマ曝露に対しても十分耐える耐プラズマ性部材およびその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a plasma resistant member exhibiting sufficient durability to plasma when it is exposed to low pressure and high density plasma, and to provide a method of producing the same. - 特許庁

大気圧プラズマ発生装置内の高圧電極１と低圧電極２との間で大気圧プラズマを発生させ、その大気圧プラズマにより被処理体Ｇの表面を滅菌する。例文帳に追加

Atmospheric pressure plasma is generated between a high pressure electrode 1 and a low pressure electrode 2 in an atmospheric pressure plasma generating apparatus to sterilize the surface of the matter G to be treated with the atmospheric pressure plasma. - 特許庁

低圧雰囲気においても，プラズマの電子温度の上昇を抑えつつ，プラズマ電子密度の均一性を制御し，被処理基板へのダメージのない，均一なプラズマ処理を行う。例文帳に追加

To execute uniform plasma processing, without damage to a substrate to be processed by controlling the uniformity of a plasma electron concentration, while suppressing the rise in plasma electron temperature, even under a low-pressure atmosphere. - 特許庁

第１のプラズマ放電圧力でガスバリア膜を形成し、その後、前記第１のプラズマ放電圧力よりも低圧力の第２のプラズマ放電圧力でガスバリア膜を形成することにより、前記課題を解決する。例文帳に追加

In this method, the gas barrier film is formed by applying a first plasma discharge pressure, and then the aimed gas barrier film is formed by applying a second plasma discharge pressure lower than that of the first plasma discharge pressure. - 特許庁

マイクロ波を利用したプラズマ発生装置において、１０^−２Ｔｏｒｒ程度の低圧力のプラズマ発生室においてもプラズマを容易に発生させることができる点火装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an igniter capable of easily generating plasma even in a plasma generating chamber having a pressure as low as 10^-2 Torr, in the plasma generating device using a microwave. - 特許庁

被処理基板に塵埃が吸着され、歩留まりの低下が発生することを防止しつつ、低圧下においても、容易にかつ確実にプラズマを着火することができ、高精度なプラズマ処理を確実に行うことのできるプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing method for easily and securely lighting up plasma in low pressure while the drop of yield is prevented and securely performing a highly precise plasma treatment by sucking dust and dirt by a substrate to be processed and to provide a plasma processing apparatus. - 特許庁