分布修正板の英語

修正した金型４により板材をプレス成形して成形品１を作成して、再度偏差と偏差分布とを求めて、金型４を再修正する。例文帳に追加

The plate material is press-molded by the corrected die 4 to form the molding 1, and the deviation and deviation distribution thereon are determined again to recorrect the die 4. - 特許庁

分布修正板等のカソード周辺部材を設置しなくても膜厚分布及び膜質分布が均一な薄膜を形成することができ、ダスト抑制及びランニングタイムの延長等を達成できるスパッタ成膜方法及びマグネトロンスパッタ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a film-forming method by sputtering, which forms a thin film with a uniformly distributed film thickness and film quality, without installing a cathode peripheral member such as a distribution correction plate, and achieves a dust control and the extension of a running time, and to provide a magnetron sputtering apparatus. - 特許庁

前記決定した光学的近接補正規則に従って修正したパターンを有するパターニング手段と前記線源強度分布の線源を使って前記プロセスウインドウ内で基板を露出することもできる。例文帳に追加

A substrate can be exposed in the process windows by using a patterning means having a pattern corrected in accordance with the determined optical proximity correction rules and by using the radiation source having the intensity distribution of the radiation source. - 特許庁

ＬＣＤパネルの表面基板及び背面基板の間に介在させた封止剤が固まる以前の、加圧して互いに結合させる時に、表面基板あるいは背面基板に設定した幾つかの測定ポイントにおけるギャップ幅を監視し、パラメータ分布を修正するための参照値を取得する。例文帳に追加

When a front substrate and a rear substrate of the LCD panel are being pressed to combine together before a sealant intervening between the substrates hardens, gap widths at several measured points located on the front or rear substrate are monitored to provide a reference for modifying a parameter distribution. - 特許庁

実施形態のパターン修正方法では、回路パターンの設計レイアウトに対応する基板上パターンを基板上に形成した場合に前記基板上パターンがエラーパターンとなる位置の周辺における前記設計レイアウト上でのパターン被覆率の分布を算出する。例文帳に追加

In a pattern correction method of an embodiment, the distribution of pattern coverage on a design layout in the periphery of a position, where an on-substrate pattern becomes an error pattern when the on-substrate pattern corresponding to the design layout of a circuit pattern is formed on a substrate, is calculated. - 特許庁

ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。例文帳に追加

The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate. - 特許庁

板厚圧下プレスによってスラブの板厚方向圧下を行うに際して、良好な生産性を保持しつつ、板厚方向圧下時の幅広がりＷ、幅分布ΔＷを低減して、エッジャー等の幅修正加工の縮小化やトリム代の低減による歩留まり向上を可能とする熱間スラブの板厚圧下方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of reducing the thickness of a hot slab by which yield can be improved due to the reduction of width correcting work such as an edger and the reduction of trimming by reducing a width spread W at the reduction in a thickness direction and a width distribution ΔW while holding excellent productivity when performing the reduction in the thickness direction by a thickness reducing press. - 特許庁