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「含み置き」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 13



例文

本発明は、携帯端末装置と置き台とを含み、携帯端末装置から増幅部を制御する制御信号を置き台に出力する音響装置を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide an audio apparatus which includes a mobile terminal device and a placing base and outputs a control signal for controlling an amplification unit, from the mobile terminal device to the placing base. - 特許庁

より正確には、フレーム整列ワードは、それぞれ48の既知のA1値およびA2値を含み、そこからの13バイトが、速度適合データで置き換えられる。例文帳に追加

More precisely the frame alignment word comprises each 48 known A1 and A2 values from which 13 bytes are replaced by the rate adaptation data. - 特許庁

プラナリゼーションゲージ301は、3つの深度計アクセス穴407を含み、プローブカード113と機械的に相互に置き換えることが可能で、半導体自動試験装置と機械的互換性を持つ。例文帳に追加

A planarization gauge 301 has three depth indicator access holes 407, and is mechanically exchangeable with the probe card 113 mutually while having compatibility with an automatic semiconductor tester. - 特許庁

基板と、該基板上に交互に積層して形成した複数の絶縁層及び複数の配線層とを含み、該絶縁層の少なくとも一つが、前記低誘電率膜である半導体装置。例文帳に追加

A semiconductor device comprising a substrate, a plurality of insulating layers and a plurality of circuit layers formed by alternatively laminating on the substrate wherein at least one of the insulating layers is the low dielectric film, is provided. - 特許庁

制御手段は、所定の条件に基づいてダミー印字指令を出力する機能を含み、当該指令が出力された時に、印字手段がバッファ領域に作り置きされた印字シートの枚数分のダミー印字を行い、押圧手段が作り置きされた全ての印字シートの貼付動作を行う。例文帳に追加

The controlling means includes a function of outputting the dummy printing command based on the predetermined condition, the printing means executes the dummy printing of the number of the printed sheets prepared in the buffer area when the command is output, and the pressing means executes the applying operation of all the prepared printed sheets. - 特許庁

炭水化物と、タン白質と、加圧下で捕集されたガスと、を含有するマトリックスを含み、該成分は加圧下および粒子のガラス転移温度以上の温度でマトリックスの多孔性粒子をガスの雰囲気下に置き、粒子を急冷またはキュアリングすることにより得る。例文帳に追加

The ingredient includes a matrix containing a carbohydrate, a protein and a gas entrapped under pressure, and is obtained by placing porous particles of the matrix in a gaseous atmosphere under pressure at a temperature not lower than the glass transition temperature of the particles and quenching or curing the particles. - 特許庁

基板の一方の面に形成された磁気記録層を含むデータ記録層および基板の他方の面に形成された軟磁性層を含み磁気記録層を含まないシールド層を有する磁気記録媒体と、磁気ヘッドとを有することを特徴とする磁気ディスク装置。例文帳に追加

This magnetic disk device is provided with: a magnetic recording medium including a data recording layer including a magnetic recording layer formed on one surface of a substrate, and a shield layer including a soft magnetic layer and including no magnetic recording layer formed on another surface of the substrate; and a magnetic head. - 特許庁

記録媒体に記録された画像を、消去する手段を有する画像表示装置用インクであって、液媒体、顔料及びコロイダルシリカを含み、該コロイダルシリカの粒度分布が少なくとも二つ以上の頻度極大値を有することを特徴とするインクジェット記録用インク、及びこれを使用する画像表示装置。例文帳に追加

There are provided an ink for image display devices having a means of erasing images recorded on a recording medium, which comprises a liquid medium, a pigment and colloidal silica, the particle size distribution of the colloidal silica having at least two frequency maximum values, and an image display device using the same. - 特許庁

基板上に塗布した、樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、及び着色剤を含む感光性樹脂組成物に対し、紫外光レーザーでパターン露光を行ウ工程を含み、膜厚が2.2μm〜3.5μmである、色度x≧0.64の赤色画素、色度x≦0.15の青色画素、及び色度y≧0.57の緑色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法、及び該製造方法により得られたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを備えた液晶表示装置。例文帳に追加

A color filter manufactured by the method, and a liquid display device provided with the color filter, are provided. - 特許庁

機能装置に給電するスイッチ手段(331−335の33b),該スイッチ手段のON(導通)を指示する電源ON指示信号を遅延する遅延手段(32)、および、前記スイッチ手段出力の過電流を検出する手段(33c−33i)を持ち前記遅延手段が遅延した電源ON指示信号に応答して前記スイッチ手段をONにする電源制御手段(33)を含み、それぞれが各機能装置に給電する複数の個別給電装置(32,33/12,13/42,43/52,53);および、前記個別給電装置のそれぞれに、前記電源ON指示信号を与える電源投入制御手段(56);を備える、複数の機能装置に個別に給電する電源装置。例文帳に追加

Thus, each power source control means (33) of the plurality of individual power supply units detects the overcurrents of each switch means output, and recognizes an overload for every functional unit without the intervention of system control. - 特許庁

例文

フッ化水素とオゾンを含有する第一の水性液膜を、清浄化されるべき半導体ウェハの表面上に形成させることと、前記第一の液膜を、フッ化水素とオゾンを含有する第二の水性液膜と置き換えることと、前記第二の液膜を除去することとを含み、前記第二の液膜中のフッ化水素の濃度が前記第一の液膜中よりも低い、半導体ウェハの清浄化方法によって解決される。例文帳に追加

The method for cleaning the semiconductor wafer comprises: the formation of a first liquid film on a surface to be cleaned of the semiconductor wafer, the first liquid film containing hydrogen fluoride and ozone; replacement of the first liquid film with a second aqueous liquid film which contains hydrogen fluoride and ozone; and removal of the second liquid film, wherein the concentration of hydrogen fluoride in the second liquid film is lower than in the first liquid film. - 特許庁

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