均等絶縁の英語

アームを、異なる絶縁基板において並列接続されたスイッチング素子にて構成した場合における、各絶縁基板を通して流す電流の均等化を図ることができるインバータモジュールを提供する。例文帳に追加

To provide an inverter module achieving equalization of a current passing through respective insulation substrates in the case where an arm is formed of switching elements connected in parallel in different insulation substrates. - 特許庁

ＩＣ１は、組電池のセル電圧を均等化する均等化回路２とセルの過充放電状態を検出する過充放電検出回路４を備え、互いに絶縁された回路ブロックＢＬＫ１、ＢＬＫ２から構成されている。例文帳に追加

An IC 1 is equipped with an equalization circuit 2 for equalizing cell voltages of a battery pack and an over charge/discharge detection circuit 4 for detecting an over charged/discharged state of cells, and comprises circuit blocks BLK1 and BLK2 insulated from each other. - 特許庁

電極１を押す際に絶縁流体３から受ける反力は、面状スイッチの全域においてほぼ均等であるから、ＯＮ荷重は面状スイッチのどの部分でもほぼ均等である。例文帳に追加

Since the reaction received from the insulating fluid 3 when the electrode 1 is pushed is nearly uniform over the whole area of this planar switch, the on-load is nearly uniform at any portion of the planar switch. - 特許庁

素子基板全体にわたって、画素電極の上層側に連続した平坦面を備えた絶縁膜を形成することができるとともに、各画素電極上に均等な膜厚の絶縁膜を設けることができる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a liquid crystal device in which an insulating film having a continuous flat surface on the upper layer side of a pixel electrode, is formed throughout an element substrate, and an insulating film having a uniform film thickness is also formed on each pixel electrode, and also to provide a method for manufacturing the liquid crystal device, and a projection display device. - 特許庁

下部電極１と、下部電極１上の容量絶縁膜２と、容量絶縁膜２上の上部電極３とを備えるキャパシタにおいて、容量絶縁膜２として、ＴｉＯ_２膜にＺｒ又はＡｌが（Ｚｒ又はＡｌ）／（（Ｚｒ又はＡｌ）＋Ｔｉ）で表される原子数比で４０％以下の濃度で均等に分布して添加された膜を使用する。例文帳に追加

The capacitor which has a lower electrode 1, the capacitance insulating film 2 on the lower electrode 1, and an upper electrode 3 on the capacitance insulating film 2 uses, as the capacitance insulating film 2, a film obtained by adding to a TiO_2 film Zr or Al with a uniform distribution of ≤40% in atomic number ratio expressed by (Zr or Al)/(Zr or Al)+Ti. - 特許庁

直線状の線材をコイルに巻き加工するに際しての従来の加工上の制約及びコイル設計上の制約を取り除くことができるとともに、加工に際して異物により絶縁被膜が損傷する問題を解決でき、また絶縁被膜を均等な厚みで且つ厚膜に形成することのできる絶縁被膜付き導体コイルの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a conductor coil with an insulating film that removes restrictions of conventional processing and restrictions on coil design when a linear wire is wound into a coil, solves the problem that an insulating film is damaged by a foreign matter during the processing, and forms the thick insulating film with uniform thickness. - 特許庁

絶縁基板上に複数の放電電極３と、該放電電極３上に形成した隔壁２を備えてなるプラズマ表示装置用基板において、隔壁２の両側に露出する放電電極３の幅をほぼ均等にする。例文帳に追加

In a substrate for a plasma display device equipped with plural discharge electrodes 3 on an insulated substrate and barrier walls 2 formed on the discharge electrodes, the width of the discharge electrodes 3 exposed to both sides of the barrier walls is designed to be almost even. - 特許庁

深さの異なる溝に絶縁膜を埋め込んで素子分離を形成するに際して、各素子分離の半導体基板表面からの高さを均等とし、高品質の半導体装置を製造する半導体装置の製造方法を得ること。例文帳に追加

To obtain the manufacturing method of a semiconductor device that manufactures a high-quality semiconductor device by equalizing the heights of each element isolation from the surface of a semiconductor substrate, when an insulating film is embedded in different depth grooves to form the device isolation. - 特許庁