坦矢の英語

遮水シート１８ａ，遮水シート１８ｂの各々の端縁を覆うように、平坦部３４、傾斜部３５ａ，傾斜部３５ｂ及びフランジ部３６ａ，フランジ部３６ｂよりなる枠体が、固定ボルト３８及びナット３９を介して鋼製箱型矢板３１に取付けられる。例文帳に追加

A frame consisting of a planar section 34, inclined sections 35a and 35b and flange sections 36a and 36b is attached to the piling section 31 through a fixing bolt 38 and a fixing nut 39 so as to cover the edges of the sheet 18a and 18b. - 特許庁

鋼矢板１３及び遮水壁平坦部１４から構成される遮水壁構造１により囲まれる廃棄物処分場内に貯留される保有水１８が漏れ出さないように、遮水壁構造１の内面が遮水シート３ａと遮水材５とで覆われる。例文帳に追加

An inside of an impervious wall structure 1 is covered with an impervious sheet 3a and an impervious material 5 so that a retained water 18 stored in a waste disposal site surrounded by the impervious wall structure 1 comprising a sheet pile 13 and an impervious wall planar section 14. - 特許庁

埋め戻された忌避剤混合土５４は、作溝機１を矢印Ｘ方向へ進行させる過程で畔地５１表面で転動する転圧ローラ２により押圧され、忌避剤混合土５４の盛り上がりが押し潰されて畔地５１表面がほぼ平坦に整地される。例文帳に追加

The buried repellent-mixed soil 54 is pressed by a rolling compaction roller 2 rotating and moving on the surface of the levee 51 in the process of the groove-forming machine 1 traveling in the arrow direction X and the surface of the levee 51 flatly leveled by allowing the position risen by the repellent-mixed soil 54 to be pressed. - 特許庁

この凹凸部をなくす方法として、例えば、平面性の良好なガラス板７を蛍光板４上に配置し、ガラス板７の上部を加圧しながらローラ８を矢印方向に転がして凸部結晶構造を崩しながら中に押し込み、ＣｓＩ表面の平坦化を図る。例文帳に追加

The surface of the CsI is flattened by arranging a glass plate 7 having good flatness on the fluorescent plate 4, and pushing in the crystal structure of the protruded part while breaking the crystal structure of the protruded part by pressurizing the upper part of the glass plate 7 and rotating the roller 8 in the arrow direction to flatten the surface of the CsI. - 特許庁

層間酸化膜８の上面８ｂに形成された凹凸を有する非晶質シリコン膜１１の上面１１ｂに対して、大電流機を用いて注入量８×１０^15ａｔｏｍ／ｃｍ^2 、注入エネルギー２０Ｋｅｖ、入射角０度で矢印１３で示すイオン注入を行うことにより、上面１４ｂが平坦化された非晶質シリコン膜１４を形成する。例文帳に追加

An amorphous silicon film 14 whose top 14b is flattened is made by subjecting it to ion implantation shown by the arrow 13, with 0 degrees for incident angle, 20 keV of implantation energy, and 8×1015 atom/cm2, using a large current machine, to the topside of the amorphous silicon film having a recess made in an upper side 8b of an interlayer oxide film 8. - 特許庁

第１大径部１９２は、ピストン１６の移動方向Ｐに見て、ガイドブロック１２に対するスライドテーブル１３の載置方向（矢印Ｒの方向）の最大幅Ｔ（平坦縁１９４，１９５間の距離）が該載置方向Ｒと垂直な方向の最大幅Ｙよりも小さくなる形状に形成されている。例文帳に追加

In the first large diameter part 192, a maximum width T (a distance between the flat edges 194, 195) in the loading direction of the slide table 13 (direction of the arrow R) with respect to the guide block 12 is formed shorter than a maximum width Y in the direction vertical to the loading direction R viewed in the moving direction P of the piston 16. - 特許庁