塩化窒素の英語

含窒素複素環ポリマー材料に、ハロ脂肪族化合物を気化接触させ、材料表面に第四級塩化窒素原子を形成する含第四級窒素複素環ポリマー材料の製造方法。例文帳に追加

A method of manufacturing a quaternary nitrogen-containing heterocyclic polymeric material comprises vaporizing a haloaliphatic compound and bringing it into contact with a nitrogen-containing heterocyclic polymeric material to form a quaternized nitrogen atom on the surface of the material. - 特許庁

被処理水内に含まれる塩化物イオンが窒素除去に対して不足する場合には、電解槽１内に、塩化ナトリウム等の塩化物イオンを供給する化合物を追加することが好ましい。例文帳に追加

In the case chloride ions contained in the water to be treated are made poor with respect to the removal of nitrogen, a compound feeding chloride ions such as sodium chloride is preferably added to the inside of the electrolytic cell 1. - 特許庁

本発明にかかる半導体装置の製造方法は、塩化ニトロシル、塩化ニトロイルまたは臭化ニトロシルのいずれかをエッチングガスとして用いたうえで、あるいはまた、一酸化窒素、一酸化二窒素、二酸化窒素、三酸化窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素、五酸化二窒素またはフッ化ニトロシルのいずれかを添加含有させてなる塩素系または臭素系のエッチングガスを用いたうえでポリシリコンまたはシリコンをエッチングすることを特徴としている。例文帳に追加

The manufacturing method of a semiconductor device is to etch a polysilicon or silicon using either one out of nitrosyl chloride, nitrile chloride or nitrosyl bromide or using chlorine or bromic base etching gas additionally containing either one out of nitrogen oxide, dinitrogen oxide, nitrogen dioxide, nitrogen trioxide, dinitrogen trioxide, dinitrogen tetroxide, dinitrogen pentoxide. - 特許庁

本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと窒素含有化合物と溶媒とを含有する導電性高分子溶液であって、窒素含有化合物が、ウレア基、ウレタン基、アロハネート基、ビュレット基、イミド基、アミド基から選ばれる１種以上の窒素含有官能基を有し、該窒素含有官能基の窒素原子が４級塩化されている。例文帳に追加

The nitrogen-containing compound has one or more nitrogen-containing functional groups selected from urea group, urethane group, allophanate group, biuret group, imide group and amide group, wherein the nitrogen atom of the nitrogen-containing functional group has the form of quaternarized salt. - 特許庁

アニオン交換樹脂の再生排液２中の硝酸性窒素及び亜硝酸性窒素を除去する硝酸性窒素除去処理４と、再生排液中の硫酸イオンを除去する硫酸イオン除去処理１０とを実施した後、塩化物イオンが残留し、硝酸性窒素、亜硝酸性窒素及び硫酸イオンが除去された処理液１４をアニオン交換樹脂の再生に利用する。例文帳に追加

Nitrate nitrogen removal treatment 4 for removing nitrate nitrogen and nitrite nitrogen in the effluent 2 in the regeneration of an anion exchange resin and sulfate ion removal treatment 10 for removing sulfate ions in the effluent are carried out and the resultant treated effluent 14 containing residual chloride ions is utilized for regenerating the anion exchange resin. - 特許庁

マグネシウムフェライトは、酸性ガス（塩化水素やフッ化水素等のハロゲン化合物、硫黄酸化物や窒素酸化物等）と反応しない。例文帳に追加

Magnesium ferrite does not react with the acidic gas (for example, a halogen compound such as hydrogen chloride and hydrogen fluoride, sulfur oxide and nitrogen oxide). - 特許庁

ガス供給管２５を介して塩化水素と窒素とを含むエッチングガスを反応管２１の内部に供給する。例文帳に追加

An etching gas containing hydrogen chloride and nitrogen is supplied to the tube 21 through a gas supplying tube 25. - 特許庁

炭素質材を利用する乾式排ガス処理装置を用いて、排ガス中の窒素酸化物、塩化水素、ダイオキシン類等を効率よく除去する。例文帳に追加

To remove nitrogen oxides, hydrogen chloride, dioxins or the like efficiently by a dry type waste gas treatment apparatus using a carbonaceous material. - 特許庁