後処理工程の英語

アルミニウム箔に対するエッチング工程の後、エッチング箔表面に後処理皮膜を形成する後処理工程の前に、エッチング箔を洗浄液で洗浄する洗浄工程を行う。例文帳に追加

In the manufacturing method of an aluminum electrode foil for electrolytic capacitors, a cleaning process for cleaning an etching foil of each electrolytic capacitor by a cleaning liquid is performed, after an etching process for its aluminum foil and before an post-processing for forming a post-processing coating on the surface of its etching foil. - 特許庁

酸化性後処理工程後の導電性金属酸化物膜９２に対し、還元作用を有する還元性ガスを接触させる還元性後処理工程を実行する。例文帳に追加

A reduction post-treatment step is executed by bringing the reduction gas having a reduction effect come into contact with the conductive metal oxide film 92 after the oxidizing post-treatment step. - 特許庁

ポリマー後処理工程を利用した無色透明ＦＴＯ伝導膜の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF COLORLESS AND TRANSPARENT FTO MEMBRANE UTILIZING POLYMER AFTERTREATMENT PROCESS - 特許庁

また、前処理工程（Ｐ２）と後処理工程（Ｐ５）の両方を行うことで、親水性の持続時間が更に長くなる。例文帳に追加

The duration of the hydrophilicity is further prolonged by performing both of the pre-processing step (P2) and the post-processing step (P5). - 特許庁

同じ後工程を持つジョブをグルーピングし、グルーピングした後工程の設定情報に基づいてさらに共通の設定を持つ後処理工程をまとめる。例文帳に追加

After grouping jobs with the same post process, post-processing steps with a common setting is collected based on setting information of the grouped post process. - 特許庁

ＣＶＤ装置及びＣＶＤ装置における成膜後の後処理工程を行う方法例文帳に追加

CVD APPARATUS AND METHOD FOR PERFORMING POST-TREATMENT PROCESS AFTER FILM FORMATION IN THE CVD APPARATUS - 特許庁

電気化学エッチング工程と、脱塩素処理工程と後処理工程と熱処理工程とを有し、上記後処理工程が、水和処理する第１工程と、硝酸アルミニウムまたは硝酸マグネシウムの０．５〜１０ｗｔ％水溶液に浸漬する第２工程とからなることを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing an etching foil for an electrolytic capacitor has an electrochemical etching process, a dechlorination treatment process, a post-processing process and a heat treatment process, wherein the post-processing process consists of a first process for performing hydration treatment, and a second process immersed in 0.5-10wt% solution of water of aluminum nitrate or magnesium nitrate. - 特許庁

ホストコンピュータ１２は、後処理ロットの基板処理開始可能指示イベントを受信し、後処理ロットの一連工程への投入待ち時間を算出し、後処理ロットの投入待ち時間が経過した後、後処理ロットの一連工程への投入開始を指示する。例文帳に追加

The host computer 12 receives the instructing event to start processing the substrate of the post-process lot, calculates the waiting time for inputting to a series of processes of the post-process lot, and instructs start of input to a series of processes of the post-process lot after the input waiting time of the post-process lot has passed. - 特許庁