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条件付けるの英語
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条件付ける
of something, the state of coming attached with obligations or stipulations
to fulfil the conditions
to restrict something by imposing conditions
the actual conditions
the condition of being conditional
conditions for completion
「条件付ける」を含む例文一覧
該当件数 : 12件
リソグラフィ装置は、放射のビームを条件付ける照明システムを有している。例文帳に追加
This lithography apparatus has a lighting system for conditioning a radiation beam. - 特許庁
信号条件付けデバイス２０は、基板に装着し、そして電気信号を条件付けるため抵抗器１６に電気的に接続する。例文帳に追加
A signal conditioning device 20 is fitted to the substrate and electrically connected to the resistors 16 in order to condition the electric signal. - 特許庁
その結果、演奏を条件付ける和音情報に適合する音高のみが、アルペジオ演奏情報出力部４に入力されることになる。例文帳に追加
As a result, only pitches adapted to chord information which conditions performance are inputted to the arpeggio performance information output part 4. - 特許庁
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、パターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートとを有している。例文帳に追加
The lithographic apparatus has an illumination system for conditioning a radiation beam, and a patterning device support for supporting a patterning device. - 特許庁
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化デバイスを支持するように構築された支持構造とを備えている。例文帳に追加
A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, and a support structure constructed to support a patterning device. - 特許庁
リソグラフィ装置は、放射のビームを条件付けるように構成されたイルミネーションシステムと、レチクルを保持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板テーブルの上にビームを投影するように構成された投影システムとを備えている。例文帳に追加
A lithographic apparatus includes the illumination system configured to condition a beam of radiation, a support structure configured to hold a reticle, a substrate table configured to hold a substrate, and a projection system configured to project a beam onto the substrate table. - 特許庁
露光システム（５）は、露光する光線を光源（１）から光学フィルム（４０）を通過して導き、次いで、感光性層（２０）の光反応を増大するか、あるいはさらに条件付けるために、露光エネルギーを反射して光学フィルム（４０）によって戻す反射表面（５８）を使用する。例文帳に追加
In the exposure system (5) directs an exposure beam from a light source (1) through the optical film (40), and uses a reflective surface (58) to reflect the exposure energy back through the optical film (40) so as to enhance or otherwise further condition the photoreaction of the photosensitive layer (20). - 特許庁
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「条件付ける」を含む例文一覧
該当件数 : 12件
リソグラフィ装置は、放射線ビームを条件付けるように構成された照明システムと、放射線ビームを基板に投射するように構成された投影システムと、放射線ビームからデブリ粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システムとを有する。例文帳に追加
This lithography device is provided with an illumination system configured so that radiation beams can be conditioned, a projection system configured so that the radiation beams can be projected to a substrate and a filter system for filter-removing debris particles from the radiation beam. - 特許庁
一方、端末装置１１８は、出力先の選択を条件付ける規則に従って出力条件を決定する出力条件制御手段２２４と、排他制御手段２４０と通信してジョブ定義データおよびイメージデータを取得し、決定された出力先に対応するプリンタドライバ２５０を選択して印刷指令を発行する発送手段２２２とを含む。例文帳に追加
The terminal device 118 includes: an output condition control means 224 determining an output condition according to a rule of conditioning selection of a printer; and a transmission means 222 communicating with the exclusive control means 240 to acquire the image data and the job definition data, selecting a printer driver 250 corresponding to the determined printer, and issuing a print instruction. - 特許庁
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。例文帳に追加
The lithographic apparatus includes: an illumination system for attaching conditions to radial beams; a support for supporting a patterning device capable of giving a pattern to a section of the radial beams to form the patterning radial beams; a substrate table for holding a substrate; and the projection system for projecting the patterning radial beams onto a target portion of the substrate. - 特許庁
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の細長い目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。例文帳に追加
A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate. - 特許庁
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターニング・デバイス（パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されている）を支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。例文帳に追加
A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device (formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam); a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. - 特許庁
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