欠陥寸法の英語

半導体ウェーハの内部結晶欠陥の深さと相対的寸法因子の測定及び結晶欠陥の個数の算出を可能とする。例文帳に追加

To measure the depth of the internal crystal defect of a semiconductor wafer and a relative dimension factor and to compute the number of crystal defects. - 特許庁

微小な欠陥を検出すること、検出した欠陥の寸法を高精度に計測することなどが求められる。例文帳に追加

To achieve detection of a fine defect, highly accurate measurement of the size of the detected defect, and so on. - 特許庁

ブレードの欠陥検査工程と寸法検査工程とを連動させて自動化を図る。例文帳に追加

To link a defect inspection process with a dimension inspection process of a blade for automization. - 特許庁

フィルムデジタル化に際して、欠陥概略寸法を一目で判断できる指標を提供する。例文帳に追加

To provide an index capable of judging an outline dimension of a defect at one glance, in digitalization. - 特許庁

ＭＴＦ（Ｅ０）＞０．５５に設定しても画素寸法／２以下の欠陥を検出可能である。例文帳に追加

The defect not more than the half of the image size may be detected even if the MIF(E0) is set>0.55. - 特許庁

寸法が小さくなっても、めっき欠陥を発生しない、薄膜ヘッドの端子を得ることにある。例文帳に追加

To provide an improved manufacturing method of a thin film head, by which a terminal having no defect can be obtained even when its size is made small. - 特許庁

半導体マスク、パターン寸法測定装置、マスク欠陥修正装置およびウェーハ転写装置例文帳に追加

SEMICONDUCTOR MASK, PATTERN SIZE MEASURING INSTRUMENT, MASK DEFECT CORRECTING DEVICE AND WAFER TRANSFER DEVICE - 特許庁

内在欠陥の表面を伝搬するレーリー波を用いて測定し、計算することにより、以前より小さな欠陥の高さ寸法まで測定することが可能になり、欠陥の形状などの評価も可能となる。例文帳に追加

By measuring and calculating the flaw using Rayleigh waves propagated along the surface of the internally present flaw, even the height dimension of the flaw smaller than before can be measured and the shape or the like of the flaw can be also evaluated. - 特許庁