残留すきまの英語

ガラス基板の洗浄で用いた洗浄液がガラス基板表面に付着残留して生成される液滴を、狭い空間内で乾燥除去する例文帳に追加

To provide a method for drying-removing liquid droplets generated by a cleaning liquid used in cleaning a glass substrate and remaining on the glass substrate, in a small space. - 特許庁

次にカラーライナー層をマスクとして第１の伝導層上及び隙間内に残留のカラー酸化層を除去する。例文帳に追加

Then, the color oxide layer remaining on the first conductive layer and inside the gap is removed with the color liner layer as a mask. - 特許庁

又はセラミックス基板表面の残留応力を−４０ＭＰａ以下とすることにより曲げ弾性率２３０ＧＰａ以上とすることができる。例文帳に追加

Otherwise, the bending modulus is controlled to ≥ 230 GPa by controlling residual stress of the surface of the ceramic substrate to ≤-40 MPa. - 特許庁

第２導電体粒子２０の一部分は多孔膜部１４の表面よりも上に残留して各第１導電体粒子１８の隙間をうめる。例文帳に追加

A portion of the second conductor particles 20 remain on the surface of the porous film part 14 and fill the gap of the respective first conductor particles 18. - 特許庁

３プレート方式の金型であっても、必要に応じて各金型間の隙間を自由に設定し、残留樹脂を簡単かつ確実に除去する。例文帳に追加

To provide a resin-sealing device from which a remaining resin can be removed easily and surely by freely setting gaps among molds as necessary even when the molds are three-plate type molds. - 特許庁

金属メッキ膜２１は、誘電体１上に形成され、その残留応力Ｓが、−３３．４ｋｇ／ｍｍ^2≦Ｓ≦３３．４ｋｇ／ｍｍ^2を満たす。例文帳に追加

A plated metallic film 21 is formed on a dielectric body 1 and the residual stress S of the film 21 satisfies the relation -33.4 kg/mm^2≤S≤33.4 kg/mm^2. - 特許庁

押圧部材の外周部の隙間に材料が残留するのを回避し得るシート成形装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sheet molding apparatus which can prevent a material from remaining in a gap of the outer peripheral part of a pressing member. - 特許庁

耐汚染性を確保しつつ、マスキングテープの粘着剤が残留しにくい建築用板材を提供する。例文帳に追加

To provide a building board which is hard to have an adhesive of a masking tape remained while securing stain resistance. - 特許庁