溶解阻止の英語

また筺体は、前記溶液１１に対する酸素の溶解が阻止された状態で、溶液１１に対する光の照射を許容する。例文帳に追加

The case also permits irradiation of the solution 11 with a light, in a state where dissolution of oxygen into the solution 11 is prevented. - 特許庁

製造作業効率の向上を図ると共に製造時における不具合の発生を阻止し、欠落ちが生じることのない大型の再溶解用消耗電極を製造可能な再溶解用消耗電極の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a consumable electrode for remelting with which the improvement of the manufacturing work efficiency is obtained and the generation of trouble at the manufacturing time is prevented and the large type consumable electrode can be manufactured without generating a chipping-off. - 特許庁

環状オレフィン重合体は、ｉ）アルカリ水溶液中における溶解を促進する、極性官能基を有する環状オレフィン単位と、ｉｉ）アルカリ水溶液中における溶解を阻止する、酸に不安定な基を有する環状オレフィン単位とを含有する。例文帳に追加

The cyclic olefin polymer contains a cyclic olefin unit having a polar functional group which promotes dissolution in an aqueous alkali solution and the cyclic olefin unit having an acid-labile group which inhibits the dissolution in the aqueous alkali solution. - 特許庁

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の溶解阻止化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified dissolution inhibiting compound. - 特許庁

（Ａ）ジスルホン基を有する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition contains (A) a compound having a disulfone group, (B) a low molecular dissolution inhibiting compound which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and has a molecular weight of ≤3,000 and (C) an alkali-soluble resin. - 特許庁

さらに、ポジ型フォトレジスト組成物は、（Ｅ）塩基性化合物、（Ｆ）溶解阻止剤を含有することができ、ネガ型フォトレジスト組成物は、（Ｅ）塩基性化合物を含有することができる。例文帳に追加

The positive photoresist composition can contain additionally a basic compound and a dissolution-obstructing agent and the negative photoresist composition can contain additionally the basic compound. - 特許庁

さらに本発明は、当該組成物を被験体に投与したときに該細胞の溶解が阻止されるよう、当該組成物中の細胞の表面上にある抗原を改変する、マスキングする、又は除去することを提案する。例文帳に追加

Furthermore, the present invention proposes the modification, masking or removal of antigens existing on the cells in the compositions to inhibit the lysis of the cells, when the compositions are administered to the subject. - 特許庁

（Ａ）特定の構造を有する酸の作用により分解する基を有する重合体、（Ｂ）特定の溶解阻止剤、及び（Ｃ）イミドスルフォネート酸発生剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

Each of the positive photoresist compositions contains (A) a polymer having a group which is decomposed by the action of an acid having a specified structure, (B) a specified dissolution inhibitor and (C) an imidosulfonate acid generating agent. - 特許庁