焼付けマスクの英語

マスクをマスクホルダから取り外す前と、マスクをマスクホルダに新たに装着した後とで、マスクのたわみ量を一定にして、焼付け誤差を低減する。例文帳に追加

To reduce an exposure error by preventing the amount of bend of a mask from being different between before and after attaching the mask to a mask holder. - 特許庁

また、マスクの位置決め精度が低下しないので、パターンの焼付け精度が低下することなく、異なる大きさの基板の露光が行われる。例文帳に追加

Further, positioning precision of the mask does not decrease, so there is no decrease in baking precision of a pattern, so that a substrate of different size is exposed. - 特許庁

表示器に出力する合成画像の信号を調整することにより、マスク帯の部分の焼付けを防止した出力装置を提供する。例文帳に追加

To provide an output device which is possible to prevent burning of the portions of mask bands by adjusting the signals of combined images outputted to a display device. - 特許庁

フォトマスク1 を介して未露光フォトマスク部材3 に露光用光源11からの光10を照射してフォトマスクのパターンと同じかまたは反転したパターンを焼付ける露光装置において、露光用光源を平面発光装置で構成した。例文帳に追加

This exposure device prints a pattern which is same as a pattern of a photomask or an inverted pattern by irradiating an unexposed photomask member 3 with a beam 10 from a light source 11 for exposure via the photomask 1 and, therein, the light source for exposure is constituted of a flat luminescence device. - 特許庁

薄板状半導体ウエハのＯＦ部とフォトマスクの表示基準点との位置合わせ作業が容易にでき、それにより高精密なフォトレジストパターンを焼付けできるウエハの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a wafer, that can easily align the OF part of a thin-plate semiconductor wafer and the display reference point of a photo mask, and can bake a highly accurate photoresist pattern. - 特許庁

プロキシミティＸＹステップ方式の露光において、ギャップ制御の精度低下を防止しながら、マスクの位置の変化による焼付け位置のずれを防止する。例文帳に追加

To prevent misalignment of an exposure position due to the change of a mask position while preventing decrease in the accuracy of gap control in exposure by a proximity XY-step system. - 特許庁

生産性の向上を図るために、露光工程でもシャドウマスクの多面取りが行われるようになってきているが、特に１７インチディスプレイ用のフォトマスクをガラス基板に焼付ける場合には、従来から使用している露光機と大きさが合わず、そのために専用の露光装置を製造するか、もしくは枠の大幅な改造を余儀なくされていたが、これを従来より使用されている露光装置を転用して使用可能としたシャドウマスク用フォトマスクの製造方法及びこれに用いられるフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask manufacturing method by which productivity is enhanced without reducing dot quality and dimensional accuracy and a highly accurate shadow mask pattern is obtained and a photomask for a shadow mask. - 特許庁