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自己研磨の英語
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英訳・英語 self-improvement
「自己研磨」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 31件
海洋用自己研磨型防汚ペイント組成物例文帳に追加
SELF-GRINDING TYPE ANTIFOULING MARINE PAINT COMPOSITION - 特許庁
半導体製造装置の自己診断方法および半導体製造装置、並びに研磨装置の自己診断方法および研磨装置例文帳に追加
SELF-DIAGNOSABLE METHOD OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT AS WELL AS SELF-DIAGNOSABLE METHOD OF POLISHING APPARATUS AND POLISHING APPARATUS - 特許庁
化学機械的研磨を利用した自己整列コンタクトパッドの形成方法例文帳に追加
METHOD OF FORMING SELF-ALIGNED CONTACT PAD USING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS - 特許庁
研磨パッドから遊離した砥粒等を自己供給することのできる半導体ウエハ等の研磨等に好適に用いられる研磨パッド用組成物及び研磨パッドを提供する。例文帳に追加
To provide a composition for abrasive pads suitably used for polishing, etc. of semiconductor wafers, etc. which may self-supply grains liberated from the abrasive pads, and also provide an abrasive pad. - 特許庁
ウエハのノッチの研磨中に、自己発塵せず、長時間安定して、ノッチを傷つけずに研磨できる研磨パッド及び方法を提供することである。例文帳に追加
To provide a grinder pad and its method capable of grinding a wafer without damaging the notch of the wafer stably for a long time without generating its own fragments when grinding the notch of the wafer. - 特許庁
半導体ウエハの面を研磨し、次いでエッチング加工した後、研磨された面に自己架橋可能層を少なくとも有する。例文帳に追加
The surface of the wafer is polished and worked by etching, and the polished surface has at least the self-crosslinkable layer. - 特許庁
半導体ウエハは、半導体ウエハの面を研磨し、研磨された面に自己架橋可能層を少なくとも有する。例文帳に追加
In the semiconductor wafer, the surface of the semiconductor wafer is polished, and the wafer has at least a self-crosslinkable layer on the polished surface. - 特許庁
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自己研磨
「自己研磨」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 31件
化学機械的研磨を利用した自己整列コンタクトパッド形成方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of forming a self-aligned contact pad using a Chemical Mechanical Polishing process. - 特許庁
基材層上に研磨層が設けられている研磨パッドにおいて、前記研磨層は、略球状の連続気泡を有する熱硬化性ポリウレタン発泡体からなり、前記基材層に自己接着しており、かつ厚さが0.5〜1mmであることを特徴とする研磨パッド。例文帳に追加
In the polishing pad provided with a polishing layer on a substrate layer, the polishing layer includes a thermosetting polyurethane foam having approximately spherical open cells and is self-adhered to the substrate layer, and thickness is 0.5-1 mm. - 特許庁
本発明の支持研磨材粒子成形体は、自己結合ダイヤモンド粒子又はCBN粒子の研磨材粒子層と一体接合したコバルト焼結炭化物支持体からなる。例文帳に追加
This support polishing material grain molding comprises a cobalt sintered carbide support body integrally jointed to a polishing material grain layer containing self-bonding diamond grains or CBN grains. - 特許庁
そして、TMR素子18をストップレイヤーとして研磨を停止し、自己整合的にTMR素子18を露出させる。例文帳に追加
The polishing is stopped by the TMR element 18 as a stop layer and the TMR element 18 is exposed through self-alignment. - 特許庁
化学機械研磨装置に用いられるリテーナリングにおいて、自己および研磨パッドの摩耗を低く抑えることができ、長寿命化が図れるリテーナリングおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a retainer ring and a method of manufacturing the same, for lengthening the service life, by minimizing abrasion of itself and a polishing pad, in the retainer ring used for a chemical machine polishing device. - 特許庁
表層部3は、研磨面P側に間隔Peで凹凸5がポリウレタン樹脂の自己組織化により形成されており、ハニカム構造を有している。例文帳に追加
In the surface layer 3, unevenness 5 is formed at a polishing surface P side at an interval Pe by the self-organization of the polyurethane resin, and the surface layer 3 has a honeycomb structure. - 特許庁
結合剤として自己研磨型船舶用防汚塗料に有用な重合体及びその重合体を含有する船舶用防汚ペイントを提供することを課題とする。例文帳に追加
To provide a polymer useful as a binder in a self-polishing type marine antifoulant coating and a marine antifoulant paint containing the polymer. - 特許庁
長期にわたり自己研磨性を示し、優れた防汚性を発揮するハイソリッド型の防汚塗料用アクリル系シラップおよび防汚塗料を提供する。例文帳に追加
To provide a high solid type acrylic syrup for an antifouling coating material exhibiting self-polishing property for a long period of time and excellent antifouling property, and to provide an antifouling coating material. - 特許庁
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