「自己研磨」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

半導体ウエハは、半導体ウエハの面を研磨し、研磨された面に自己架橋可能層を少なくとも有する。例文帳に追加

In the semiconductor wafer, the surface of the semiconductor wafer is polished, and the wafer has at least a self-crosslinkable layer on the polished surface. - 特許庁

化学機械的研磨を利用した自己整列コンタクトパッド形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a self-aligned contact pad using a Chemical Mechanical Polishing process. - 特許庁

ウエハのノッチの研磨中に、自己発塵せず、長時間安定して、ノッチを傷つけずに研磨できる研磨パッド及び方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a grinder pad and its method capable of grinding a wafer without damaging the notch of the wafer stably for a long time without generating its own fragments when grinding the notch of the wafer. - 特許庁

基材層上に研磨層が設けられている研磨パッドにおいて、前記研磨層は、略球状の連続気泡を有する熱硬化性ポリウレタン発泡体からなり、前記基材層に自己接着しており、かつ厚さが０．５〜１ｍｍであることを特徴とする研磨パッド。例文帳に追加

In the polishing pad provided with a polishing layer on a substrate layer, the polishing layer includes a thermosetting polyurethane foam having approximately spherical open cells and is self-adhered to the substrate layer, and thickness is 0.5-1 mm. - 特許庁

そして、ＴＭＲ素子１８をストップレイヤーとして研磨を停止し、自己整合的にＴＭＲ素子１８を露出させる。例文帳に追加

The polishing is stopped by the TMR element 18 as a stop layer and the TMR element 18 is exposed through self-alignment. - 特許庁

本発明の支持研磨材粒子成形体は、自己結合ダイヤモンド粒子又はＣＢＮ粒子の研磨材粒子層と一体接合したコバルト焼結炭化物支持体からなる。例文帳に追加

This support polishing material grain molding comprises a cobalt sintered carbide support body integrally jointed to a polishing material grain layer containing self-bonding diamond grains or CBN grains. - 特許庁

化学機械研磨装置に用いられるリテーナリングにおいて、自己および研磨パッドの摩耗を低く抑えることができ、長寿命化が図れるリテーナリングおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a retainer ring and a method of manufacturing the same, for lengthening the service life, by minimizing abrasion of itself and a polishing pad, in the retainer ring used for a chemical machine polishing device. - 特許庁

窒化膜２５より酸化膜２３に対して高い研磨選択比を有するスラリーでトレンチ素子分離膜２９の化学的な機械的な研磨（Ｃｈｅｍｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）工程をおこない、酸化膜より多結晶シリコンに対して高い研磨選択比を有するスラリーで自己整列フローティングゲートを形成してフラッシュメモリ素子を製造することを特徴とする。例文帳に追加

A chemical mechanical polishing step of a trench element separating film 29 is performed by a slurry having a high polishing selection ratio to an oxide film 23 rather than to a nitride film 25, a self-alignment floating gate is formed by a slurry having a high polishing selection ratio to a polycrystal silicon rather than to the oxide film, so that the flash memory cell is manufactured. - 特許庁

ハードディスクなどの研磨布として研磨したり、電子機器などを清掃するためのワイピングクロスとして使用した際に、オリゴマーなどを由来とする自己発塵微粒子や溶媒などにより抽出される低分子量物質の発生が少なく、またハードディスク表面や精密な電子部品を傷つけることのない研磨清掃用に適した分割型複合繊維を得ること。例文帳に追加

To provide a splittable conjugate fiber suitable for polishing and cleaning, which little generates self-dusted particles derived from oligomers and has a low molecular weight substances extractable with a solvent and the like and damaging neither a hard disk surface nor fine electronic parts when used for polishing as an abrasive cloth for hard disks or used as a wiping cloth for cleaning electronic devices. - 特許庁

本発明は、多結晶シリコン用化学的機械的研磨（Chemical Mechanical Polishing）のためのスラリー組成物及びこれを利用した半導体素子の形成方法に関し、より詳しくはエッチング防止膜の素子分離酸化膜に比べて多結晶シリコンに対し高い研磨選択比を有するスラリーでトレンチ素子分離膜を研磨し、フラッシュメモリ素子の自己整合浮遊ゲート（Self Align Floating Gate）を形成する半導体素子の形成方法に関する。例文帳に追加

A slurry composition for chemical mechanical polishing for the polycrystalline silicon and the semiconductor element utilizing it are formed, by a method wherein a trench element separation film is ground with the slurry having the grinding selection ratio with respect to the polycrystalline silicon, which is higher compared with the element separation oxide film of an etching prevention film, to form the self aligned floating gate of the flash memory element. - 特許庁

貯蔵安定性、海水中における耐水性に優れ、長期に渡って防汚効果を発現することができ、さらに密着性に優れた自己研磨性を有する水性防汚塗料用樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an aqueous antifouling coating resin composition having self-abrasiveness which excels in storage stability and the water resistance in seawater, can exhibit an antifouling effect over a long period, and furthermore excels in adhesion. - 特許庁

長期にわたり自己研磨性を示し、優れた防汚性を発揮するハイソリッド型の防汚塗料用アクリル系シラップおよび防汚塗料を提供する。例文帳に追加

To provide a high solid type acrylic syrup for an antifouling coating material exhibiting self-polishing property for a long period of time and excellent antifouling property, and to provide an antifouling coating material. - 特許庁

有機溶剤に可溶であり、これを用いた防汚塗料が、長期の加水分解性を維持するとともに、海中での優れた防汚効果を長期間発揮する自己研磨型防汚性塗料組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a self-grinding type antifouling coating composition which is soluble in an organic solvent and is used to provide an antifouling coating capable of maintaining long-term hydrolyzability, exhibiting an excellent antifouling effect in the sea for a long period of time. - 特許庁

貯蔵安定性に優れ、且つ海水中における耐水性に優れ長期にわたって防汚効果を発現することができ、さらに密着性に優れた自己研磨性水性防汚塗料組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a self-grinding aqueous antifouling coating composition which has an excellent storage stability, an excellent water resistance in seawater, capable of exhibiting an excellent antifouling effect for a long period of time, and has an excellent adhesion. - 特許庁

有機錫含有防汚塗料の良好な防汚及び自己研磨特性並びに寿命を維持しながら、錫を含有しないフィルム形成性ポリマーを含む改良型の侵食性防汚塗料組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide an improvement type of an erodible antifouling paint composition which contains a film formable polymer unit without tin, while maintaining the excellence in the antifouling, self-polishable characteristics and life of an organotin-containing antifouling paint. - 特許庁

結合剤として自己研磨型船舶用防汚塗料に有用な重合体及びその重合体を含有する船舶用防汚ペイントを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a polymer useful as a binder in a self-polishing type marine antifoulant coating and a marine antifoulant paint containing the polymer. - 特許庁

形成される塗膜は、比較的高温の海水中においても、自己研磨性が低下することなく、優れた防汚効果を長期間維持するものであり、しかも、環境上好ましい防汚性塗料組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an antifouling coating composition which forms a coating film capable of maintaining an excellent antifouling effect for a long time without deterioration of self-polishing properties even in seawater of a relatively high temperature and which is desirable from environmental viewpoints. - 特許庁

表層部３は、研磨面Ｐ側に間隔Ｐｅで凹凸５がポリウレタン樹脂の自己組織化により形成されており、ハニカム構造を有している。例文帳に追加

In the surface layer 3, unevenness 5 is formed at a polishing surface P side at an interval Pe by the self-organization of the polyurethane resin, and the surface layer 3 has a honeycomb structure. - 特許庁

船舶の運航速度が低速時でも、形成される塗膜の自己研磨性が低下することなく、優れた性能を長期間維持させることができる防汚性塗料組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an antifouling coating composition that provides a coating film whose self-polishing property does not degrade when operation speed of a ship is low, and which can maintain excellent performances for long period of time. - 特許庁

酸化膜に比べて多結晶シリコンに対する研磨選択比に優れたＣＭＰ用スラリー及び、前記スラリーを利用してフラッシュメモリ素子の自己整合浮遊ゲートを形成する半導体素子の形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a forming method of slurry for CMP which is superior in grinding selection ratio with respect to polycrystalline silicon compared with an oxide film, and the forming method of a semiconductor element for forming the self aligned floating gate of a flash memory element utilizing the slurry. - 特許庁

海中での優れた防汚効果を長期間発揮するとともに、有機珪素系防汚塗料等から形成される旧塗膜へのリコート性に優れた、自己研磨型防汚性塗料組成物の提供。例文帳に追加

To provide a self-abrading antifouling coating material composition which not only exhibits an excellent antifouling effect in seawater for a long period of time but also has excellent recoating properties to an ex-coated film formed of an organic silicon based antifouling coating material. - 特許庁

自己支持性のある厚みを持ち、ハンドリングしやすいフッ素化ポリイミド基板に誘電体膜を積層後、多層膜側を支持材に接着・固定し、フッ素化ポリイミド基板の裏面を切削・研磨して、所定の厚さに調整し、フッ素化ポリイミド基板側から、チップサイズに切断する。例文帳に追加

After dielectric films are laminated onto a fluorinated polyimide substrate which has enough thickness for self supporting property and is easily handled, the multilayer film side is adhered and fixed to a supporting material, the back face of the polyimide substrate is ground and polished to control to specified thickness, and the film is cut into a chip size from the fluorinated polyimide substrate side. - 特許庁

切刃として使用される砥粒自体に切り粉保持機能や冷却機能を付与すると共に自己発刃機能を有し、長時間にわたる研削性能が確保される砥粒を提供することにあり、更にはその砥粒を使った研削性能や研磨性能の良好な砥石等の研削工具を提供する。例文帳に追加

To add a chip holding function and a cooling function to abrasive grains themselves used as a cutting edge, to provide abrasive grains having a self-edging function and ensuring grinding performance for long hours, and to provide a grinding tool such as a grinding wheel using the abrasive grains and having good grinding performance and polishing performance. - 特許庁

１）ロジンおよび／またはロジン等価物を含有する、ペイント組成物の１５〜８０実体積％を含有するバインダー系および２）ペイント組成物の０．１〜３０実体積％を含有する繊維からなる海洋用自己研磨型防汚ペイント組成物。例文帳に追加

This self-grinding type antifouling marine paint composition comprises (1) a binder containing a rosin and/or a rosin equivalent, which occupy 15-80 real-volume% of the paint composition, and (2) a fiber which occupies 0.1-30 real-volume% of the paint composition. - 特許庁

各々の砥石７４、７６は、自己の担当の工作箇所の工作を完了した場合、他方の砥石が修正（研磨や交換）中であるか否かを判断し、他方の砥石が修正中の場合には、修正中でない砥石が、修正中の砥石の担当の工作箇所を工作する。例文帳に追加

When they finish the working in charge, it is decided whether the other side grinding wheel is being corrected (abraded or exchanged) or not, and when the other side grinding wheel is being corrected, the grinding wheel not being corrected works the working position charged by the grinding wheel in the correction. - 特許庁

本発明の半導体装置の製造方法は、（１）凹凸部を有するシリコン層の凹部に自己整合的に絶縁層を形成する工程と、（２）前記絶縁層でシリコン層を保護しながら、露出したシリコン層を化学機械研磨する工程とを含む。例文帳に追加

The manufacturing method of semiconductor device comprises the steps of (1) forming an insulating film on the self-aligning basis to a recess of a silicon layer including a project and the recess, and (2) polishing chemically and mechanically the exposed silicon layer while protecting the silicon layer with the insulating layer. - 特許庁