蒸着速度の英語

真空蒸着法において、雲母基板の前処理方法および蒸着の際の真空度、蒸着温度、蒸着速度、膜厚等の条件を検討することにより、上記課題を解決した。例文帳に追加

The problem is solved by investigating the pretreatment method for a mica substrate and the conditions such as degree of vacuum, vapor deposition temperature, vapor deposition rate, and film thickness in the vacuum deposition method. - 特許庁

従来より蒸着物質の蒸着速度を追従性良く制御することができる真空蒸着方法及び真空蒸着装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method and a system for vacuum deposition by which the deposition rate of a vapor deposition material can be controlled with greater follow-up properties than heretofore. - 特許庁

蒸着において温度変化や蒸着材料の変動によって蒸着速度(蒸気の発生量)が一定にならないために蒸着膜の安定化が困難である。例文帳に追加

To solve such a problem in vapor deposition that a vapor deposited film is hardly stabilized because of an unstable deposition rate (vapor generation quantity) caused by temperature change or a material to be deposited. - 特許庁

蒸着において温度変化や蒸着材料の変動によって蒸着速度（蒸気の発生量）が一定にならないために蒸着膜の安定化が困難である。例文帳に追加

To solve such a problem in vapor deposition that a vapor deposited film is hardly stabilized because of an unstable deposition rate (vapor generation quantity) caused by a temperature change or a material to be deposited. - 特許庁

蒸着設備は蒸着源の移動速度を制御して均一性を具備した薄膜を得て、さらに蒸着源とウエハー間の距離を調整して成膜速度を制御する。例文帳に追加

To provide a vapor deposition device capable of obtaining a thin film with uniformity by controlling the moving speed of a vapor deposition source, and controlling the film deposition speed by adjusting the distance between the vapor deposition source and a wafer. - 特許庁

有機化合物の蒸着において、突沸や蒸発速度の変化を防止し、長時間安定的に一定蒸発速度で蒸発を行う蒸着方法および蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vapor deposition method and a vapor deposition equipment where, in vapor deposition for an organic compound, bumping and the change of an evaporation rate are prevented, and evaporation is performed at a fixed evaporation rate stably for a long period of time. - 特許庁

蒸着（スパッタリング）金属による形成成膜の接着力が強く、形成速度の速い電子ビーム蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron-beam evaporation apparatus which attains a strong adhesion of a film formed by deposition of an evaporated (sputtering) metal and a high formation speed. - 特許庁

蒸着装置は、蒸着源１、筒状加熱体２、成膜速度検出器３及び遮蔽体４を備える。例文帳に追加

The vapor deposition apparatus is provided with: a vapor deposition source 1; a cylindrical heating element 2; a film deposition rate detector 3; and a shielding body 4. - 特許庁