表面汚染密度の英語

燃料棒の表面汚染密度の自動検査装置と検査方法例文帳に追加

AUTOMATIC INSPECTION DEVICE FOR SURFACE CONTAMINATION DENSITY OF FUEL ROD AND INSPECTION METHOD - 特許庁

線量、線量当量、放射性物質の濃度及び放射性物質によって汚染された物の表面の放射性物質の密度の監視並びに汚染の除去に関すること。例文帳に追加

Matters relating to ventilation and drainage monitoring equipment - 経済産業省

表面汚染密度測定に必要な面積を有する半導体検出器を複数分割して、各分割部分にそれぞれ独立した電極と配線を施し、複数の分割部分を一体に統合使用して表面汚染密度測定を行うと共に、複数の分割部分を一体または独立した状態で使用して空間線量当量率測定を行わしめることを可能にして半導体検出器を得る。例文帳に追加

The semiconductor detector is obtained by dividing a semiconductor detector having an area required for measuring surface contamination density into a plurality of portions, performing wiring to each independent electrode at each divided section, integrating the plurality of divided sections for use and measuring the surface contamination density, and using the plurality of divided sections in one piece or independently and measuring the equivalent weight rate of spatial rays in this state. - 特許庁

複数の機器を携帯して、現場内の測定点を移動して空間線量当量率の測定および表面汚染密度の測定を行う測定作業の大きな作業負荷を軽減し、一個の測定器具で空間線量当量率と表面汚染密度の測定を任意に行えるようにすることにより、測定の迅速性と正確性を確保する。例文帳に追加

To secure rapidness and accuracy in measurement by carrying a plurality of pieces of equipment, reducing the large work load in measurement operation for measuring the equivalent weight rate of spatial dose and surface contamination density by moving measurement points on site, and by arbitrarily measuring the equivalent weight rate of spatial rays and surface contamination density by one measuring instrument. - 特許庁

高密度プラズマや表面波電界等の影響を受けても、被処理物が金属汚染の発生することのないプラズマ装置とその方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for plasma treatment with which an object to be treated is prevented from causing metal contamination, even if the object is affected by high-density plasma, surface waves, electric fields, etc. - 特許庁

高密度プラズマを閉じ込める実質的に全ての面がポリマーの付着を促進する表面粗さ特性を持つことができ、反応器内のパーティクル汚染は実質的に減少され得る。例文帳に追加

In this manner, substantially all surfaces that confine the high density plasma will have surface roughness characteristics that promote polymer adhesion, and particulate contamination inside the reactor can be substantially reduced. - 特許庁

半導体ウエハ等の基板の表面に形成される集積回路の高密度化に伴い、より微量な汚染が歩留まり向上の障害となっている。例文帳に追加

To remove micro-quantity of contamination, especially metallic contamination and organic contamination on a wafer, which obstructs the yield improvement of higher density integrated circuits formed on a substrate, such as a semiconductor wafer. - 特許庁