観測板の英語

高い観測技術を持たない観測実施者でも、配線基板における電気信号の良好な観測を容易に行うことができる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique for enabling, even an observer who does not have high observation expertise, to readily make proper observation on the electrical signal of a wiring board. - 特許庁

観測完了後、観測制御装置は、撮影された観測板の画像と、予め記憶する複数の参照画像とをそれぞれ比較して最も類似する参照画像を取得する。例文帳に追加

After completion of the observation, the observation control device compares an image of the photographed observation board with a plurality of previously stored reference images to obtain a reference image with the highest similarity. - 特許庁

電子平板２は、逐次、ＴＳ１がプリズム３を自動追尾して取得した観測情報及び設定情報に基づいて観測点現在位置を算出し、誘導画面の表示内容を観測点現在位置に応じて更新する。例文帳に追加

The flat plate 2 calculates the present position of the observation point, based on the observation information and setting information that the TS1 sequentially acquired by automatically tracking the prism 3, and updates display contents on the guidance screen, corresponding to the present position of the observation point. - 特許庁

観測者側透明基板１と背面側透明基板２は、平滑なガラス板を用いる。例文帳に追加

Smooth glass plates are used for an observer side transparent substrate 1 and a back surface side transparent substrate 2. - 特許庁

そして、透明平板１の下方からタイヤＴの接地形状を撮像手段５にて観測する。例文帳に追加

The contact shape of the tire T is observed by an image pickup means 5 from the lower side of the transparent flat plate 1. - 特許庁

透過部は、基板上に形成された位置合わせ用パターンおよびその周囲の基板を含むマーク領域により反射されて観測装置に入射する観測光を透過させ且つイオンを遮断する材質から構成される。例文帳に追加

The transmitting portion is composed of such a material as transmitting observation light reflected from an alignment pattern formed on the substrate and from a mark region including peripheral substrates to enter observation equipment, and intercepting ions. - 特許庁

偏光板１１、１５、位相差板１２、１４を観測者側透明基板１と背面側透明基板２の上にそれぞれ貼りつける。例文帳に追加

Polarizing plates 11 and 15 and optical retardation plates 12 and 14 are stuck onto the observer side transparent substrate 1 and the back surface side transparent substrate 2, respectively. - 特許庁

ドライエッチング途中の半導体基板のエッチング状態を時間をかけずに観測する手段を提供し、かつその観測結果を後のエッチング条件に反映する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a means for observing an etching state of a semiconductor substrate during a dry etching without spending many hours, and a method of reflecting an observation result thereof to the following etching conditions. - 特許庁