速度異方性の英語

バルク３４Ａおよび微粒子３４Ｂは共に光学異方性を有しており、これらの電場に対する応答速度が互いに異なっている。例文帳に追加

Both of the bulk 34A and the fine particles 34B have optical anisotropy, and have the responding speed different from each other relative to an electric field. - 特許庁

サンプルの遺伝毒性及び変異原性の両方、及び遺伝毒性の速度を測定するための組換え核酸配列及び方法例文帳に追加

RECOMBINANT NUCLEIC ACID SEQUENCE AND METHOD FOR MEASURING BOTH GENETIC TOXICITY AND MUTAGENICITY OF SAMPLE AND RATE OF GENETIC TOXICITY - 特許庁

異方性溶融相形成性ポリマーを製造するために、重合温度を低下させ、および／または重合速度を高める方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a liquid crystalline polymer comprising lowering reaction temperature and/or raise reaction rate to produce an anisotropic melt phase forming polymer. - 特許庁

回転軸方向の高さを小さくした振動子による角速度センサに、水晶などの異方性材料を容易に適用できるようにする。例文帳に追加

To enable to easily adapt an anisotropic material such as a quarts crystal to an angular velocity sensor lowered in the height in the rotational axis direction. - 特許庁

犠牲層５は、シリコン結晶異方性ケミカルエッチング液６により、単結晶シリコン基板２をエッチングする速度よりも速い速度で選択的にエッチング可能な材料で構成する。例文帳に追加

The sacrificial layer 5 is made of a material that can be selectively etched at a speed higher than the speed at which the single crystal silicon substrate 2 is etched. - 特許庁

異方性エッチング処理では、結晶の｛１１１｝面よりもエッチング速度が遅い結晶面を有する凹凸が形成される。例文帳に追加

Projections/ recessions having a crystal surface which is slower in an etching velocity than the (111) surface of the crystal are formed by the anisotropic etching processing. - 特許庁

ＰＶＤ銅膜又は異種金属膜の上に平滑なＣＶＤ銅薄膜を再現性良く、高い成長速度で形成する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for forming a flat CVD copper thin-film on a PVD copper film or a dissimilar metal film, with satisfactory reproducibility in a high growth rate. - 特許庁

誘電率異方性が負の液晶材料を使用するベンドモードの液晶表示装置の応答速度を高める。例文帳に追加

To raise response speed of a liquid crystal display device in a bend mode which uses a liquid crystal material whose anisotropy of dielectric constant is negative. - 特許庁