隣接定義域の英語

ウェハ等の基板を定量的に評価する方法は、連続した複数の第１の領域を、各第１の領域が隣接する第１の領域とオーバーラップするように定義する。例文帳に追加

The method of quantitatively evaluating the substrate such as a wafer defines a plurality of continuous first regions such that each first region overlaps an adjacent first region. - 特許庁

帯域幅制御回路９４は、隣接妨害状態かつ高変調状態では、Ｗ_Ｆの定義値を基準帯域幅ｗ_Ｗ及び狭帯域幅ｗ_Ｎのいずれとするか選択可能に構成される。例文帳に追加

The bandwidth control circuit 94 is configured so that the defined value of W_F can be selected from among a reference bandwidth w_W and a narrow bandwidth w_N in a neighboring interference state and high modulation state. - 特許庁

帯域幅制御部９４は、隣接妨害の有無、受信信号の変調度の高低、受信信号がステレオかモノラルか等の条件の組み合わせ（条件分類）に応じて、Ｗ_Ｆを予め定義された値に制御する。例文帳に追加

A bandwidth control section 94 controls W_F at a previously defined value in accordance with combinations of conditions (condition classification) such as the presence or absence of neighboring interference, the pitch (high or low) of modulation of a reception signal and stereo/monaural of the reception signal. - 特許庁

表示装置を製造するために使用されるフォトマスクは、その表面において複数の描画領域と複数の描画領域のうち隣接する描画領域の間に形成される描画継ぎ部とが定義されており、描画領域の少なくとも一つの上にはパターンが形成されている。例文帳に追加

In the photomask 10 for producing the display device, plural plotting regions and plotting joint parts 14 formed between adjacent plotting regions in plural plotting regions are defined on the surface and a pattern 4 is formed on at least one of the plotting regions. - 特許庁

レジスト膜が形成された基板上に定義されるパターン領域に複数の第１露光区画を互いに隣接させて配列し、パターン領域の全面にわたり第１露光量で、マスクパターンを第１露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。例文帳に追加

A plurality of first exposure segments are arranged in adjoining one another in a pattern area defined on a substrate where a resist film is formed; and the resist film in each first exposure segment is successively exposed to light in a first exposure luminous energy to transfer a mask pattern over the entire pattern area. - 特許庁

本発明の方法は、複数の背景画像の画素値と複数の被写体画像の画素値とから、ボクセル空間中の各ボクセルの背景尤度を表す連続値を算出し、各ボクセル間の隣接関係を考慮したエネルギー関数を定義し、これを最小化するように、各ボクセルに被写体領域または背景領域のいずれかに割り当てることで、被写体領域を決定し、ボクセルデータを構築する。例文帳に追加

The method calculates continuous values representing background likelihood for each voxel in a voxel space from a pixel value of a plurality of background images and a pixel value of a plurality of images for the object, defines an energy function considering neighboring relation between respective voxels, and determines an object area and constructs voxel data by allocating either of the object area or a background area to each voxel to minimize the energy function. - 特許庁

交差構造で画素領域を定義するゲートライン２１及びデータライン６０と、前記画素領域に形成され、前記ゲートライン及び前記データラインの交差部と隣接する一辺が傾斜して形成された画素電極１００と、前記画素電極の傾斜した一辺と並んで形成されて光漏れを遮蔽する光遮蔽パターン２３とを含む液晶表示装置及びその製造方法。例文帳に追加

The liquid crystal display device includes gate lines 21 and data lines 60 defining pixel regions by a crossing structure, a pixel electrode 100 formed in the pixel region and having a diagonal side formed adjacent to a crossing portion of the gate line and the data line, and a light blocking pattern 23 preventing light leakage and formed parallel to the diagonal side of the pixel electrode. - 特許庁

本発明は半導体素子の製造方法に関し、特に活性領域を定義する素子分離膜の形成前に格納電極コンタクトに予定されている部分及びその隣接領域の半導体基板を所定厚さにエッチングして段差のあるチャンネルを有するゲートを形成することにより、格納電極接合領域で漏洩電流を低減させて半導体素子のリフレッシュ特性を向上させることができる技術である。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of reducing a leakage current in a storage electrode junction region by forming a gate having a stepped channel, by etching into a predetermined thickness a semiconductor substrate in a portion scheduled for a storage electrode contact and in an adjacent region thereof before the formation of an element isolation film that defines an active region. - 特許庁