露寄の英語

次いでフォトマスクを介して凹溝１０底部の側壁寄りの未露光レジストに光を照射する２度目の露光とその後の現像とを行う。例文帳に追加

Then the resist is subjected to second exposure to irradiate the unexposed resist near the side wall of the bottom of the recessed groove 10 with light through a photomask, and then developed. - 特許庁

２度目の露光によって凹溝底部の側壁寄りの未露光レジストが硬化し、凹溝側壁の傾斜角が凹溝底部側において緩やかになる。例文帳に追加

The unexposed resist near the side wall of the bottom of the recessed groove is hardened by the second exposure, which makes a loose inclination angle of the side wall of the recessed groove in the bottom side. - 特許庁

露光用マスク上に存在する位相欠陥の表面形状を効率的に測定することができ、露光用マスクの生産効率向上に寄与する。例文帳に追加

To effectively measure a surface shape of a phase defect existing on an exposure mask, and contribute to improvement of production efficiency of the exposure mask. - 特許庁

マスクと基板とを走査しつつ露光する際、所望の露光精度を維持したまま露光処理に寄与しない加速・減速を短くできる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner in which acceleration/deceleration uncontributive to exposure processing is shortened, while sustaining a desired exposure accuracy when a mask and a substrate are exposed while being scanned. - 特許庁

制御システム２０が、同一基板Ｗに対して複数回の露光を繰り返し行う際に、各回の露光に要求される露光精度に応じて、スループットに寄与する露光システム１０２の制御ファクタを変更する。例文帳に追加

When a plurality of exposures are performed repeatedly on one and the same substrate W, control factors for an aligner 102, which are related with throughput are changed by a control system 20 according to an exposure accuracy required for each exposure. - 特許庁

照明有効領域２は電子ビーム露光法において、露光に寄与する有効な電子放射領域であり、照射制限領域１は露光には直接寄与せず、制限されていなければ電子銃またはカラム内のアパーチャ電極で遮蔽される電子ビームを放射する領域である。例文帳に追加

In an electron beam exposure method, the irradiation effective region 2 is an electron emission region which effectively contributes to exposure, and the irradiation limited region 1 is a region which does not contribute directly to exposure and which emits electron beams to be shielded by an aperture electrode in an electron gun or a column, if not limited. - 特許庁

照明有効領域２は電子ビーム露光法において、露光に寄与する有効な電子放射領域であり、照射制限領域１は露光には直接寄与せず、制限されていなければ電子銃またはカラム内のアパーチャ電極で遮蔽される電子ビームを放射する領域である。例文帳に追加

The effective irradiation region 2 is an effective electron irradiation region that is conductive to light exposure in an electron beam exposure method, and the irradiation restricted region 1 is not directly conductive to light exposure and serves as an electron beam irradiating region shielded by an electron gun or an aperture electrode located in a column if it is not restricted. - 特許庁

被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光方法であって、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させてつなぎ露光するものである。例文帳に追加

In the exposure method performing joint exposure by irradiating an article to be exposed with light source light through a mask pattern of a photomask and then overlapping end regions of adjoining exposure patterns, the joint exposure is performed while gradually reducing the exposure amount in the end region of the exposure pattern from near the center toward an adjoining end of the exposure pattern. - 特許庁