B-fieldsとは 意味・読み方・使い方

This can narrow the detection area for the RFID tag 3, in the high-frequency magnetic field B positioned in the middle to the high-frequency magnetic fields A, C on both sides among the three high-frequency magnetic fields A, B, C.例文帳に追加

これによって、３つの高周波磁気フィールドＡ，Ｂ，Ｃのうち、両側の高周波磁気フィールドＡ，Ｃに対して中間に位置する高周波磁気フィールドＢにおけるＲＦＩＤタグ３の検知エリアを狭くすることができる。 - 特許庁

At the performing of the second exposure, the region 50 is divided into fields of larger sizes which are larger than the fields divided for the first exposure, as shown in Fig. 2(B), and the exposure is performed with an exposure of 1/2D.例文帳に追加

第２回目の露光時においては、図２（Ｂ）に示すように、第１回目よりは大きめのフィールドに描画領域５０を分割し、Ｄ・１／２の露光量で露光する。 - 特許庁

When a gray level is [p], sub field group A, B, C and D comprising continuous three or more sub fields are turned on.例文帳に追加

階調レベル「ｐ」である場合に、連続する３つ以上のサブフィールドからなるサブフィールド群Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄにわたってオンとさせる。 - 特許庁

Time lags between fields are decreased in order for the image (charge accumulation period (a)) picked up in an A field and the image (charge accumulation period (b)) picked up in a B field to be nearly simultaneously captured.例文帳に追加

Ａフィールドで撮像した画像（電荷蓄積期間ａ）とＢフィールドで撮像した画像（電荷蓄積期間ｂ）をほぼ同時に取り込まれるために、フィールド間の時間差が少ない。 - 特許庁

A half mirror 14 is fitted into a wall panel 20a of a security gate, and cameras 16 (A-B) are vertically arranged on the surface opposite to the mirror surface the authentication object person faces so that their fields overlap vertically.例文帳に追加

セキュリティーゲートの壁パネル20a 内にはハーフミラー14が嵌め込まれ、被認証者が対面する鏡面と反対側の面にカメラ16(A〜B)が写野が上下に重なるように縦に並ぶ。 - 特許庁

Iraq, in 2009, twice setting up the oil and gas fields to international bidding, when conditions are right - 2016 to 2017 the production capacity of 1,000 to 1,200 million barrels / day (b / d) could be reached.例文帳に追加

イラクは、2009 年に油田・ガス田の国際入札を二度にわたって実施した結果、条件が整えば2016～2017 年にも生産能力が1,000～1,200 万バレル／日（b/d）に達する可能性があると言われている。 - 経済産業省

The data of the inputted publish number fields are made flow onto the map in place of the ID inputted on the map (figure (b)).例文帳に追加

入力された掲載番号フィールドのデータを前記地図上に入力されたＩＤに代えて、地図上に流し込みを行なう（図（ｂ））。 - 特許庁

The pattern is then changed to a shape like (b) according to the optical unsharpness rates B1 and B2 on both sides of the boundary 12 of the sub-fields, where B1<B2.例文帳に追加

そして、サブフィールドの境界１２の両側の光学的なボケ量Ｂ１とＢ２に応じて、（ｂ）のような形状にパターンを変更する。 - 特許庁