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CH concentrationとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 CH濃度
「CH concentration」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
The concentration of impurities in a channel formation region CH is inhibited to nearly the same as the conventional D-MOSFET, and at the same time a lower high-concentration region 34 where the concentration of impurities is higher than that of the channel formation region CH is provided at the lower section of a body region 36.例文帳に追加
チャネル形成領域ＣＨの不純物濃度を従来のＤ−ＭＯＳＦＥＴと同程度に抑えつつ、不純物濃度がチャネル形成領域ＣＨのそれより高い下部高濃度領域３４をボディ領域３６の下部に設けている。 - 特許庁
Furthermore, nitrogen concentration is low in the neighborhood of an interface with the semiconductor surface area CH, and increases toward the inside of the bottom insulation film.例文帳に追加
さらに、半導体表面領域ＣＨとの界面付近で窒素濃度が低く、ボトム絶縁膜内側に向かって増加する。 - 特許庁
The impurity concentration of the high concentration drift region is higher than the impurity concentration of the drift region 13 but not lower than 1/5 of it on the channel region (ch) of the base region 14.例文帳に追加
高濃度ドリフト領域は、ドリフト領域１３よりも高くかつベース領域１４のチャネル領域（ｃｈ）の不純物濃度と１／５以上の不純物濃度を有する。 - 特許庁
In the high-pressure discharge lamp, with tungsten electrodes arranged in opposition in an arc tube and a predetermined volume of bromine sealed in, encapsulated bromine concentration C_s in the arc tube is regulated to the concentration calculated by Formula CS=E(CW+CH).例文帳に追加
発光管内にタングステン電極が対向配設されると共に、所定量の臭素が封入されて成る高圧放電ランプにおいて、発光管内の封入臭素濃度Ｃ_Ｓを、次式により算出される濃度に規定した。 - 特許庁
+ [CH=CH_2]≤48 x [η]^0.60 [wherein^ [COOH] represents concentration of a carboxy terminal group (equivalent/10^6 g), [CH=CH_2] represents concentration of a vinyl terminal group (equivalent/10^6 g) and [η] represents intrinsic viscosity of polybutyleneterephthalate resin, respectively].例文帳に追加
１５×［η］^０．９５≦［ＣＯＯＨ］＋［ＣＨ＝ＣＨ_２］≦４８×［η］^０．６０ （１）（式中、［ＣＯＯＨ］はポリブチレンテレフタレート系樹脂のカルボキシル末端基濃度（当量／１０^６ｇ）を、［ＣＨ＝ＣＨ_２］はポリブチレンテレフタレート系樹脂のビニル末端基濃度（当量／１０^６ｇ）を示す。また、［η］はポリブチレンテレフタレート系樹脂の固有粘度を示す。） - 特許庁
The nitrogen concentration distribution of the bottom insulation film BTM exposes the semiconductor surface area CH to plasma containing nitrogen atoms, and is obtained by nitriding.例文帳に追加
このようなボトム絶縁膜ＢＴＭの窒素濃度分布は、半導体表面領域ＣＨを窒素原子を含むプラズマに曝し、窒化することにより得られる。 - 特許庁
It has a bottom insulation film BTM including an area different in nitrogen concentration in the film thickness direction between the semiconductor surface area CH of the board side and the charge accumulation layer FG.例文帳に追加
基板側の半導体表面領域ＣＨと電荷蓄積層ＦＧとの間に、膜厚方向に窒素濃度が異なる領域を含むボトム絶縁膜ＢＴＭを有する。 - 特許庁
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「CH concentration」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
The concentration of impurities in the channel formation region CH is inhibited, thus preventing the threshold voltage of the D-MOSFET 20 from becoming higher than conventional.例文帳に追加
チャネル形成領域ＣＨの不純物濃度を抑えることで、Ｄ−ＭＯＳＦＥＴ２０のしきい値電圧が従来より高くなることを防ぐことができる。 - 特許庁
A channel region CH and a first low-concentration impurity region LDD1 that is continuous therewith are formed in the first region, and a conductive region served as a source S or a drain D is formed in the second region, while a second low-concentration impurity region LDD2 for connecting the first low-concentration impurity region LDD1 with the conductive region is formed in the intermediate region.例文帳に追加
第１領域には、チャネル領域ＣＨとこれに連続する第１の低濃度不純物領域ＬＤＤ１とが形成され、第２領域には、ソースＳ又はドレインＤとなる導電性領域が形成され、中間領域には第１の低濃度不純物領域ＬＤＤ１と導電性領域とを接続する第２の低濃度不純物領域ＬＤＤ２が形成されている。 - 特許庁
To provide a method of separating and recovering platinum group elements by which the platinum group elements in the form of chlorides such as chloro-complexes are selectively adsorbed and eluted regardless of their kinds from a chloride solution containing ch platinum group elements in a relatively low concentration and coexiting impurity elements in a high concentration by using an ion exchange resin.例文帳に追加
比較的低濃度に白金族元素を含む一方、高濃度に不純物元素を共存する塩化物溶液から、クロロ錯体等の塩化物の形態である白金族元素をその種類を問わず、イオン交換樹脂を用いて選択的に吸着し、溶離する白金族元素を分離回収する方法を提供する。 - 特許庁
This method for producing the carbonyl-substituted aromatic compound comprises decreasing the concentration of an R'R"-CH-substituted aromatic compound (R' and R" are each an alkyl, an aryl, an allyl or an aralkyl) to 3% or less before oxidizing the R-CH2-substituted aromatic compound, then oxidizing the aromatic compound.例文帳に追加
Ｒ−ＣＨ_2基（Ｒは水素、アルキル基、アリール基、アリル基、アラルキル基のいずれかを表す）を有する芳香族化合物を酸化する前に、Ｒ’Ｒ”−ＣＨ基（Ｒ’，Ｒ”はそれぞれ、アルキル基、アリール基、アリル基またはアラルキル基を表す）を有する芳香族化合物濃度を３％以下にしてから酸化する。 - 特許庁
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