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Cap 'nとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 キャプテン;グループリーダー;指揮者
Cap 'nの |
「Cap 'n」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 86件
The number N of cell blocks per one side of the cap is even-numbered.例文帳に追加
口金の1辺当たりのセルブロック数Nは、偶数である。 - 特許庁
The layer structure LS1 includes an n-type high concentration carrier layer 3, an n-type light absorbing layer 5, and an n-type cap layer 7.例文帳に追加
層構造体LS1は、n型の高濃度キャリア層3、n型の光吸収層5、及びn型のキャップ層7を含んでいる。 - 特許庁
Thermal treatment is performed thereon diffusing an n-side cap layer 8A inside the gate electrode metal film M beneath the n-side cap layer 8A and allowing the former to react with the latter, thereby forming an n-side gate electrode metal film MA inside the nFET region Rn.例文帳に追加
その上で、熱処理を行って、n側キャップ層8Aを、その直下のゲート電極用金属膜M内に拡散・反応させて、nFET領域Rn内にn側ゲート電極用金属膜MAを形成する。 - 特許庁
A sub-collector layer 9, an n-GaAs collector layer 3, a p-GaAs base layer 4, an n-InGaP or n-AlGaAs emitter layer 5, an n-GaAs emitter cap layer 6, an n-InGaAs graded emitter cap layer 7 and an n-InGaAs emitter cap layer 8 are sequentially formed on a GaAs substrate 1 to constitute a hetero-junction bipolar transistor.例文帳に追加
GaAs基板1上に、サブコレクタ層9、n−GaAsコレクタ層3、p−GaAsベース層4、n−InGaP又はn−AlGaAsエミッタ層5、n−GaAsエミッタキャップ層6、n−InGaAsグレーデッドエミッタキャップ層7、及びn−InGaAsエミッタキャップ層8が順次形成してヘテロ接合バイポーラトランジスタを構成する。 - 特許庁
The liquid jet device discharges ink from nozzles N after sealing the nozzle-forming surface 8a with a cap member 11.例文帳に追加
ノズル形成面8aをキャップ部材11によって封止した後、ノズルNからインクを吐出する。 - 特許庁
A p-side electrode 36 is provided on the p-InP cap layer and an n side electrode 38 is provided on the back surface of the n-InP substrate.例文帳に追加
p−InPキャップ層上にはp側電極36が、n−InP基板の裏面にはn側電極38が設けてある。 - 特許庁
An n-type InP buffer layer 22, a reflector layer 23, an i-type InGaAs photo-absorption layer 24, and an n-type InP cap layer 28 are laminated on an n-type InP substrate, and zinc(Zn) is diffused in the n-type InP cap layer 28 to form a p-type diffusion region 32 as a photo-receiving portion.例文帳に追加
n−InP基板20上に、n−InPバッファ層22,反射鏡層23,i−InGaAs光吸収層24,n−InPキャップ層28が積層され、n−InPキャップ層28内に亜鉛(Zn)が拡散されて、受光部となるp型拡散領域32が形成されている。 - 特許庁
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「Cap 'n」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 86件
On an n-GaAs substrate 21, an n-AlGaAs clad layer 22, an undoped AlGaAs optical guide layer 23, an undoped active layer 24, an undoped AlGaAs optical guide layer 25, a p-AlGaAs clad layer 25, and a p-GaAs cap layer 27 are in sequence laminated.例文帳に追加
n-GaAs基板21の上に、n-AlGaAsクラッド層22、アンドープAlGaAs光ガイド層23、アンドープ活性層24、アンドープAlGaAs光ガイド層25、p-AlGaAsクラッド層26、p-GaAsキャップ層27を順次積層する。 - 特許庁
An n-type buffer layer, an n-type clad layer, an active layer 38, a p-type clad layer and a p-type cap layer are sequentially laminated on an n-type substrate, and an (n) electrodes 44 is provided on a lower surface of the substrate.例文帳に追加
n型基板上に、n型バッファ層、n型クラッド層、活性層38、p型クラッド層、及びp型キャップ層を順次積層し、基板の下面にn電極44を設ける。 - 特許庁
On the n-type InAlGaN cap layer 4, Ti/Al ohmic electrodes 5 serve as a source electrode and a drain electrode, and are formed in contact with the n-type InAlGaN cap layer 4.例文帳に追加
n型InAlGaNキャップ層4の上には、n型InAlGaNキャップ層4と接し且つソース電極及びドレイン電極となるTi/Alオーミック電極5が形成されている。 - 特許庁
A cap unit 10 closely joins and seals a cap member 12 which is housed in the cap unit 10 to a nozzle formed surface 8a on which nozzles N are formed, through a driving mechanism.例文帳に追加
駆動機構を介してキャップユニット10は、ノズルNが形成されたノズル形成面8aに同キャップユニット10に収容されたキャップ部材12を密着させ封止する。 - 特許庁
In this hetero-junction bipolar transistor, an n+-type AlGaAs emitter layer 5, a p+-type GaAs base layer 6, an n-type GaAs collector layer 7, an n+-type GaAs collector cap layer 8, and a collector electrode 11 made of an alloy of AuGe and Ni sequentially formed on an n+-type GaAs substrate 1.例文帳に追加
本発明のヘテロ接合バイポーラトランジスタは、n^+型GaAs基板1上にn^+型AlGaAsエミッタ層5、p^+型GaAsベース層6、n型GaAsコレクタ層7、n^^+型GaAsコレクタキャップ層8、AuGeとNiの合金から成るコレクタ電極11を順次形成している。 - 特許庁
A sub-collector layer 2 of n+-GaAs, a collector layer 3 of n- GaAs, a base layer 4 of p-GaAs, a first emitter layer 5 of n-InGaPs, a first cap layer 7 of n+-GaAs, and a second cap layer 8 of n+-InGaAs are provided on a semi-insulating GaAs substrate 1.例文帳に追加
半絶縁性GaAs基板1上に、n^+ −GaAsからなるサブコレクタ層2、n−GaAsからなるコレクタ層3、p−GaAsからなるベース層4、n−InGaPからなる第1エミッタ層5、n−AlGaAsからなる第2エミッタ層6、n^+ −GaAsからなる第1キャップ層7、n^+ −InGaAsからなる第2キャップ層8を設ける。 - 特許庁
The layer structure LS includes an antireflection film 2, an n-type (first conduction type) high concentration carrier layer 3, an n-type optical absorption layer 5 and an n-type cap layer 7, which are sequentially laminated.例文帳に追加
層構造体LSは、順次積層された、反射防止膜2、n型(第一導電型)の高濃度キャリア層3、n型の光吸収層5及びn型のキャップ層7を含む。 - 特許庁
The layer structural body LS1 comprises a laminated etching stopping layer 2, an n-type high density carrier layer 3, an n-type light absorbing layer 5, and an n-type cap layer 7.例文帳に追加
層構造体LS1は、積層された、エッチング停止層2、n型の高濃度キャリア層3、n型の光吸収層5、及びn型のキャップ層7を含む。 - 特許庁
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