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Chemical impurityとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 化学的不純物


JST科学技術用語日英対訳辞書での「Chemical impurity」の意味

chemical impurity


「Chemical impurity」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 40



例文

IMPURITY RECOVERY METHOD AND IMPURITY RECOVERY DEVICE FOR LOCAL TRACE CHEMICAL ANALYSIS例文帳に追加

局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置 - 特許庁

LOW-IMPURITY ORGANOSILICON PRODUCT AS PRECURSOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

化学気相堆積用前駆体としての低不純物有機ケイ素生成物 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition semiconductor film forming apparatus that forms a semiconductor film of uniform impurity concentration by chemical vapor deposition.例文帳に追加

純物濃度が均一な半導体膜を化学気相成長により基板上に形成する化学気相成長半導体膜形成装置を提供する - 特許庁

A chemical seed rich in energy is generated by discharge, and impurity is removed by physical and chemical action thereof.例文帳に追加

放電によってエネルギーに富んだ化学種を生成し、その物理的、化学的作用によって不純物を除去する。 - 特許庁

In this case, a chemical equilibrium is formed to the impurity element by mixing a compound gas containing the impurity element for controlling the threshold value in the atmosphere, to prevent the impurity element from escaping into a gaseous phase.例文帳に追加

その際、雰囲気中に前記しきい値制御のための不純物元素を含む化合物ガスを混合することで、該不純物元素にとって化学的な平衡状態を形成し、該不純物元素が気相中へと離脱するのを防止する。 - 特許庁

To provide a chemical filter in which a granular impurity and a gaseous impurity are not dropped off from a filter itself and an extremely low concentration of gaseous impurity can be efficiently removed.例文帳に追加

フィルタ自身からの粒子状不純物やガス状不純物の脱離がなく、極低濃度のガス状不純物を効率よく除去することができるケミカルフィルタを提供する。 - 特許庁

例文

To protect a chemical-treated wafer from an impurity floating in a surface layer of the chemical when transporting the wafer out of a vessel in a wet apparatus where the wafer is cleaned by being immersed in the chemical.例文帳に追加

薬液にウェハーを浸けて洗浄するウェット装置において、出槽の際の薬液表層に漂う不純物から薬液処理済みのウェハーを保護すること。 - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「Chemical impurity」の意味

chemical impurity


Weblio英和対訳辞書での「Chemical impurity」の意味

Chemical impurity

Weblio英和対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「Chemical impurity」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 40



例文

Furthermore, the nitride chemical compound semiconductor layer contains Al_xGa_1-xN (0≤x<1), and the impurity contains at least one of In, As, P, Sb.例文帳に追加

また、窒化物系化合物半導体層はAl_xGa_1-xN(0≦x<1)、不純物はIn,As,P,Sbのうち少なくとも一種類を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an impurity removing apparatus capable of also effectively removing fine particles from a chemical component in addition to dust and a gas component.例文帳に追加

塵埃およびガス成分に加えて、化学成分からなる微粒子をも効果的に除去し得る不純物除去装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises the steps of performing a contaminating treatment, for giving a prescribed amount of contamination consisting of a metal impurity onto a semiconductor substrate and performing a physical and chemical treatment on the metal impurity which contaminated the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上を金属不純物により所定量汚染させる汚染処理を行う工程と、前記半導体基板上を汚染させた金属不純物に対して物理的・化学的処理を行う工程とを有する方法とする。 - 特許庁

To provide a degradation determining apparatus for determining the degree of a degradation in an impurity removing member such as a chemical filter before an optical component is exposed to the impurity.例文帳に追加

光学部品などが不純物に晒される前にケミカルフィルタなどの不純物除去部材の劣化度を判定することが出来る劣化判定装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a device for forming a chemical vapor deposition semiconductor film, forming a semiconductor film having a uniform impurity concentration on a substrate by chemical vapor deposition.例文帳に追加

不純物濃度が均一な半導体膜を化学気相成長により基板上に形成する化学気相成長半導体膜形成装置を提供する - 特許庁

According to the purification method of the chemical substance, a crude product containing a chemical substance (a) as a main component, endotoxin (b) as an impurity, and a liquid material (c) which is insoluble to the chemical substance (a) are brought into contact under the basic conditions.例文帳に追加

化学物質(a)を主成分として含有し、かつエンドトキシン(b)を不純物として含有する粗製物と、化学物質(a)に対して非溶解性である液状物質(c)とを塩基性条件下に接触させることを特徴とする化学物質の精製方法。 - 特許庁

Concentration of impurity metal is measured by previously obtaining the relevant dependence relationship using the result of measurement of concentration of the relevant impurity metal with a chemical method in the calibration stage, and then conducting the correction considering the relevant dependence relationship in the measuring stage.例文帳に追加

較正段階において化学的方法による当該不純物金属の濃度の測定結果を用いて当該依存関係を求めておき、測定段階において当該依存関係を考慮した補正を行うことによって不純物金属の濃度の測定を行う。 - 特許庁

例文

This is because it is assumed that taking particular care to curb the release of Class I specified chemical substances into the open system is the minimum obligation imposed on chemical manufacturers and those who allow their products to contain the specific chemical substances, even as an impurity, beyond the technically and economically feasible levels, are deemed to be manufacturing Class I specified chemical substances through negligence of such a duty.発音を聞く 例文帳に追加

これは、第一種特定化学物質の開放系への放出を抑制するために細心の注意を払うことは化学工業者に課された最低限の義務であり、たとえ不純物であっても工業技術的・経済的に可能なレベル以上に特定化学物質を含有させているものは、かかる注意義務を懈怠して第一種特定化学物質を製造していると考えられるためである。 - 経済産業省

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