LATTICE DEFECTとは 意味・読み方・使い方

This carrier has no lattice defect and magnesia is not detected even by X-ray diffraction and the lattice constant of the carrier is near to a theoretical value.例文帳に追加

この担体は格子欠陥がなく、Ｘ線回折によってもマグネシアが検出されず、格子定数が理論値に近い。 - 特許庁

A linear defect structure is made by eliminating one lattice row from a plurality of linear lattice row groups in a slab type two dimensional photonic crystal, the lattice point row adjacent to a linear defect is so moved to make the width narrower than the linear defect width equivalent to one row of lattice of points, or a structure arranged on the lattice points is deformed and the waveguide width becomes 0.7W.例文帳に追加

スラブ型２次元フォトニック結晶における複数の直線状の格子列群から１列格子列を除いて線欠陥構造とし、格子点１列分の線欠陥幅よりも狭くなるように、線欠陥に近接する格子点列を移動させ、または、格子点上に配置された構造体を変形させ、導波路幅を０.７Ｗとした構造である。 - 特許庁

To suppress lattice defect and produce a good-quality diamond having little H content.例文帳に追加

格子欠陥を抑制し、Ｈ含有量の少ない良質のダイヤモンドを製造する。 - 特許庁

To produce a high grade single crystal at high productivity, hardly containing lattice defect and micropipe defect.例文帳に追加

格子欠陥およびマイクロパイプ欠陥の非常に少ない高品位の単結晶を非常に生産性よく製造することができるようにする。 - 特許庁

To realize an inspection device capable of individually detecting a step bunching and a defect other than the step bunching such as a lattice defect.例文帳に追加

格子欠陥等のステップバンチング以外の欠陥とステップバンチングとを個別に検出できる検査装置を実現する。 - 特許庁

Thereafter, ions 30 are irradiated to the substrate 20 to cause a lattice defect layer 20a on the surface of the substrate 20, and further the lattice defect layer 20a is removed by grinding.例文帳に追加

その後、基板２０に対してイオン３０を照射することにより基板２０の表面に格子欠陥層２０ａを生じさせ、さらに研磨により格子欠陥層２０ａを除去する。 - 特許庁

If a lattice defect occurs as the oxygen desorbs from the oxide semiconductor layer 14, the fluorine compensates the lattice defect, whereby the electrical characteristics of the oxide semiconductor layer 14 are stably held.例文帳に追加

酸化物半導体層１４から酸素が脱離して格子欠陥が生じた場合には、その格子欠陥をフッ素が補償するため、酸化物半導体層１４の電気特性が安定して保持される。 - 特許庁

Since the lattice defect formed in the stress light emitter by exposure is retained for a long period of time, also the accumulated amount of exposure can be simply measured without separately using the composition of a memory device or the like if the lattice defect is used.例文帳に追加

被曝により応力発光体に形成される格子欠陥が長期間保持されるため、当該格子欠陥を用いれば被曝量の積算についても記憶装置等の構成を別途用いることなく簡易に計測することができる。 - 特許庁