LD processとは 意味・読み方・使い方

A nonlinear state estimator 206 estimates the value x(t+Ld) of the state variable x at a future time point after the idle time from present time based on the present output value y and the set values of the idle time, the time constant and the process gain.例文帳に追加

非線形状態予測器２０６が、現在の出力値ｙと、無駄時間、時定数及びプロセスゲインの設定値とに基づいて、現在から無駄時間後の将来時点での状態変数ｘの値ｘ(t+Ld)を予測する。 - 特許庁

In a process in which an LD 4 and a PD 5 are simultaneously manufactured together with an optical waveguide 2 within the same plane on a silicon substrate, a thin insulating layer is provided under the LD 4 and a thick insulating layer under the PD 5, with a difference in level imparted to these insulating layers.例文帳に追加

シリコン基板１上の同一面内に、光導波路２と共にＬＤ４およびＰＤ５を同時に作製する工程において、ＬＤ４の下には薄い絶縁層を、ＰＤ５の下には厚い絶縁層１０を設け、これら絶縁層に段差をつける。 - 特許庁

A CPU 81 carries out a halftone process with using two methods separately depending on whether pixels showing a value of a level data LD of 0 continue by N or not.例文帳に追加

各画素ごとにハーフトーン処理を実行する際、階調値が値０となる画素がＮ画素以上連続したか否かによって２つのハーフトーン処理方法を使い分ける。 - 特許庁

Then, the power P_1-P_k of a laser light L2 emitted from the high reflective film C1 is measured by supplying a current to the DFB laser LD (process S107).例文帳に追加

次に、ＤＦＢレーザＬＤに電流を供給することによって高反射膜Ｃ１から出射されるレーザ光Ｌ２のパワーＰ_１〜Ｐ_ｋを測定する（工程Ｓ１０７）。 - 特許庁

In the process S109, the semiconductor laser product is obtained by judging that the DFB laser LD is non-defective when the slope efficiency E_1-E_k is below a predetermined threshold E_th.例文帳に追加

工程Ｓ１０９では、スロープ効率Ｅ_１〜Ｅ_ｋが所定の閾値Ｅ_ｔｈ以下の場合にＤＦＢレーザＬＤが良品であると判断して、半導体レーザ生産物を得る。 - 特許庁

By an LD control circuit 6, in the process of setting the PLL in a state where the operation of the optical disk player or the magneto-optical disk player is not stabilized, the continuous light emission driving is performed without performing the intermittent light emission driving even though a PCK signal is supplied to the LD control circuit 6.例文帳に追加

ＬＤ制御回路６は光ディスク再生装置または光磁気ディスク再生装置の動作が安定していないＰＬＬ引き込み途中の状態では、ＰＣＫ信号がＬＤ制御回路６に供給されていても断続発光駆動は行わず連続発光駆動を行う。 - 特許庁

In a derivation process, the differential efficiency curve of I/L characteristics of an LD chip are acquired at a constant temperature (S1, S2), and the inclination of an approximate straight line of the differential efficiency curve is calculated (S3).例文帳に追加

導出工程では、ＬＤチップのＩ／Ｌ特性の微分効率曲線が一定温度下で取得され（Ｓ１、Ｓ２）、この微分効率曲線の近似直線の傾きが算出される（Ｓ３）。 - 特許庁

Further, photograph layout information LI2 associated with the photograph document data PT2 after a CMYK conversion process is created and layout data LD obtained by replacing the photograph layout information LI1 with this information is used as print data.例文帳に追加

さらに、ＣＭＹＫ変換処理後の写真原稿データＰＴ２を関連づけた写真レイアウト情報ＬＩ２を作成し、これを写真レイアウト情報ＬＩ１と差し替えたレイアウトデータＬＤを印刷データとする。 - 特許庁