Post Exposureとは 意味・読み方・使い方

POST-EXPOSURE MODIFICATION OF CRITICAL DIMENSION IN MASK FABRICATION例文帳に追加

マスクの製造におけるクリチカル寸法の露呈後の修正方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses collapse of a resist pattern and degradation of its profile due to post exposure between exposure and PEB (post exposure bake) at the time of immersion exposure, and also to provide a method of pattern formation with the composition.例文帳に追加

液浸露光時の、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To shorten the time lag until the start of the post exposure by performing pre-exposure in short time to the utmost.例文帳に追加

プリ露光をできるだけ短時間で行ない、本露光を開始するまでのタイムラグを短縮する。 - 特許庁

The second module performs a step for cleaning the wafer and a post-exposure bake step after the exposure step.例文帳に追加

第２モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程及び露光後ベーキング工程を行う。 - 特許庁

POST EXPOSURE METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVING PRINTING DURABILITY OF PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

平版刷版の耐刷性向上用の後露光方法及び装置 - 特許庁

To provide an application/development apparatus capable of making the post exposure delay time of respective wafers constant without increasing the number of set of post exposure bake unit.例文帳に追加

露光後ベークユニットの台数を増加させずに、露光後遅延時間を各ウエハで一定とすることができる塗布・現像装置を提供すること。 - 特許庁

A plurality of exposure patterns are formed with a kind of light shielding member by generating the phenomenon such as over exposure and/or under exposure in the pre-exposure and post-exposure processes.例文帳に追加

先の露光工程と後の露光工程において、オーバー露光及び／又はアンダー露光等の現象を生じさせることによって、一種類の遮光部材で複数の露光パターンを実現する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for liquid immersion exposure and improved in such problems as collapse of a resist pattern due to post exposure delay between steps of exposure and PEB (post exposure bake), deterioration in the profile and production of scum during liquid immersion exposure, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化、スカムの発生が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁