W heatsとは 意味・読み方・使い方

This heating furnace heats the workpiece W by convection of an atmospheric gas by circulating the atmospheric gas in a heating chamber 1.例文帳に追加

加熱炉は、加熱室１内の雰囲気ガスを循環させることにより、雰囲気ガスの対流によってワークＷを加熱する。 - 特許庁

Along the transporting line 1 of the device M1, a heating section 2 which heats the substrates W to a prescribed temperature, a treating section 3, and a cooling section 4 which cools the substrates W, are sequentially disposed.例文帳に追加

この搬送ライン１に沿って、基材Ｗを所定温度まで加熱する加熱部２と、処理部３と、基材Ｗを冷却する冷却部４が順次配置されている。 - 特許庁

A thermal treatment apparatus 68 is equipped with a hot platen 67, which heats a wafer W, keeping it horizontal in position and a lid 63, which forms a space S serving as a treating chamber that processes the wafer W.例文帳に追加

加熱処理装置６８は、ウエハＷを加熱し、基板を水平に保持する熱板６７と、ウエハＷを処理する処理室となる空間Ｓを形成する蓋６３とを具備する。 - 特許庁

Consequently, the wafer holding part 2 which has large heat capacity in a region near by the center part of the wafer W heats the wafer W to form a liquid film of temperature control liquid A in the peripheral edge region of the wafer W, which is thereby heated.例文帳に追加

このようにすると、ウエハＷの中央部近傍領域では熱容量の大きいウエハ保持部２にてウエハＷが加熱され、ウエハＷの周縁領域には温調液Ａの液膜が形成され、これによりウエハＷが加熱される。 - 特許庁

The cooking machine 1 carries the food W from an opening surface 53 for carry-in into the heating chamber 60 by the carrying means 71 and heats and cooks the food W by the heating means 43 while moving it slowly inside the heating chamber 60.例文帳に追加

調理機１は、食品Ｗを搬入用開口面53から加熱室60内に搬送手段71で搬入し、この食品Ｗを加熱室60内で徐行させながら加熱手段43で加熱調理する。 - 特許庁

After exposure of a resist film for EUV on a wafer W but before a development process, the PEB device 83 firstly heats the wafer W at a first heating temperature using the first thermal plate 140.例文帳に追加

ウェハＷ上のＥＵＶ用レジスト膜の露光処理後であって現像処理前において、ＰＥＢ装置８３では、先ず、第１の熱板１４０によって第１の加熱温度でウェハＷを加熱する。 - 特許庁

When a heater 146 contained in the mounting table 114 heats the wafer W and a process gas is fed in the treating chamber 102, a TiN barrier metal layer is formed on the wafer W.例文帳に追加

載置台１１４に内装された加熱装置１４６でウェハＷを加熱すると共に，処理室１０２内に処理ガスを導入すると，ウェハＷにＴｉＮから成るバリアメタル層が形成される。 - 特許庁

A cleaner 1 heats the wall part of a processing container 2 and the inside atmosphere to 80°C by means of rubber heaters 7-9, and heats the inside atmosphere and a wafer W to 80°C by the hot air discharged from a hot air supply means 10.例文帳に追加

洗浄装置１は，ラバーヒータ７〜９により処理容器２の壁部，内部雰囲気を８０℃に加熱し，ホットエア供給手段１０から吐出されたホットエア７１により，内部雰囲気及びウェハＷを８０℃に加熱する。 - 特許庁