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Z-measurementとは 意味・読み方・使い方
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「Z-measurement」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 124件
In correcting the position in the Z axial direction, the measurement mirror 28 is moved to a Z axis measurement reference point PZ1 to measure the difference in the amounts of light received.例文帳に追加
Z軸方向の位置の補正は、測定ミラー28をZ軸測定基準位置PZ1に移動して、受光量の差を測定して行う。 - 特許庁
To achieve fast measurement in a Z-directional range in which a dynamic range is wide, and shortening of a measurement time.例文帳に追加
ダイナミックレンジの広いZ方向範囲の高速な測定及びこれによる測定時間の短縮。 - 特許庁
By allowing a moment detection unit 21 to detect a moment load F_MZ which generates a moment component M_Z about Z-axis acting on the object under measurement 2, the magnitude and direction of the moment component M_Z about Z-axis is calculated.例文帳に追加
また、測定対象物2に作用するZ軸回りのモーメント成分M_Zを発生させるモーメント荷重F_MZをモーメント検出部21が検出することによって、Z軸回りのモーメント成分M_Zの大きさ及び方向が演算される。 - 特許庁
The control part 140 discriminates peak Z"max of imaginary number component of the AC impedance to applied frequency of AC current applied during measurement, and obtains peak frequency ω_o corresponding to Z"max.例文帳に追加
制御部140は、測定時に印加した交流電流の印加周波数に対する前記交流インピーダンスの虚数成分のピークZ”maxを判別し、Z”maxに対応するピーク周波数ω_0を取得する。 - 特許庁
In EDS measurement, correction for inter-element interactions is performed by considering the atomic number, Z, the absorption, A, and fluorescence, F. 発音を聞く 例文帳に追加
EDS測定においては、元素間の相互作用に対する補正は、原子番号(Z)、吸収(A)、蛍光(F)を考慮することによって行われる(成し遂げられる)。 - 科学技術論文動詞集
For the target pixels for measuring height among each pixel, measurement values are set as z-axis and z-axis of another pixels are set zero.例文帳に追加
各画素のうち、高さ計測の対象とされた画素には、z座標として計測値が設定され、その他の画素のz座標はゼロ値に設定される。 - 特許庁
The problem to be solved in the present invention is solved, by setting the measurement frequency f so as to generate minimum error ▵Z with regard to the impedance Z.例文帳に追加
この課題は、Zに関して最小の誤差ΔZが生じるように、測定周波数fを設定することによって解決される。 - 特許庁
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「Z-measurement」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 124件
To prevent unbalanced load generated by the probe pressure of a probe unit from acting on a measurement stage by raising a Z-stage by means of a Z-drive source provided on the outside of the measurement stage, by not incorporating the drive mechanism of the Z-stage in the measurement stage.例文帳に追加
Zステージの駆動機構を測定ステージに組み込まないようにして、測定ステージの外部にあるZ駆動源によってZステージを上昇させることで、プローブユニットの針圧による偏荷重が測定ステージに作用しないようにする。 - 特許庁
A measurement beam LB is projected on a measurement surface (scale) 39Y_2 provided partially on an upper surface of a stage WST from a Z head 72a, and a reflected beam from the measurement surface is received to measure Z-axial surface position information on the measurement surface at a projection point of the measurement beam LB.例文帳に追加
Zヘッド72aからステージWSTの上面の一部に設けられた計測面(スケール)39Y_2に計測ビームLBを投射し、その計測面からの反射ビームを受光して、計測ビームLBの投射点における計測面のZ軸方向に関する面位置情報を計測する。 - 特許庁
The vibrator 11A which uses measurement of physical quantities corresponding to a predetermined detection axis Z, is provided.例文帳に追加
所定の検出軸Zに対応する物理量を測定するのに用いる振動子11Aを提供する。 - 特許庁
The correspondence between an m/z value and a (q, CID) value pair is set by preliminary measurement.例文帳に追加
m/z値と(q,CID)値対との間の対応は、予備測定検量によって設定可能である。 - 特許庁
LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD UTILIZING FLAT PANEL DISPLAY (FPD) CHUCK Z POSITION MEASUREMENT例文帳に追加
リソグラフィ装置及びFPDチャックZ位置測定を利用したデバイス製造方法 - 特許庁
The measurement device includes a Z-axis guide mechanism 30Z guiding a Z-spindle 17 relative to a Y-slider 16 so that the Z-spindle 17 can move in a direction perpendicular to the movement directions of an X-slider 14 and the Y-slider 16.例文帳に追加
Yスライダ16に対して、Zスピンドル17をXスライダ14およびYスライダ16の移動方向に対して直交する方向へ移動可能にガイドするZ軸ガイド機構30Zを有する測定装置。 - 特許庁
To effectively suppress the occurrence of the measurement error of a head (for example, an encoder and a Z sensor) caused by abnormality in a measurement surface, and further the occurrence of operation abnormality.例文帳に追加
計測面の異常に起因するヘッド(例えばエンコーダ、Zセンサなど)の計測誤差、さらに動作異常の発生を効果的に抑制する。 - 特許庁
A calibration device is configured to measure the Ry of the object support with the X interferometer measurement system in at least two different Z positions, measure the Ry of the object support with the Z interferometer measurement system in at least two different Z positions, calibrate the linear Z dependency of the Ry on the basis of the measurements, and calibrating the linear X dependency of Z on the basis of the previous calibration.例文帳に追加
較正デバイスは、X干渉計測定システムを使用して、少なくとも2つの異なるZ位置で対象物支持体のRyを測定し、Z干渉計測定システムを使用して、少なくとも2つの異なるZ位置で対象物支持体のRyを測定し、測定した測値に基づいてRyの一次Z依存性を較正し、且つ、該較正に基づいてZの一次X依存性を較正するようになされている。 - 特許庁
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