abbe errorとは 意味・読み方・使い方

To reduce the effect of gas fluctuation and improve measurement accuracy, by eliminating both of positioning error of measurement with an interferometer and an error due to principles of Abbe by position detection sensor using diffraction grating.例文帳に追加

干渉計による計測位置決め誤差と、回折格子を用いる位置検出センサーによるアッベの原理に基づく誤差の両者を排除し、気体ゆらぎの影響低減と計測精度の向上を図るステージ位置計測および位置決め装置である。 - 特許庁

Position detecting means 11, 12 of the substrate stage ST used for positioning at an exposure position and position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST used for detecting alignment information at an alignment position are disposed so that the Abbe error about the exposure position and alignment position is approximately zero.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Moreover, means 11 and 12 for detecting the positions of the substrate stage ST used for positioning in exposure position, and means 11 and 13 (11 and 14) for detecting the position of the substrate stage ST used for detection of alignment information in alignment position are arranged severally so that the Abbe error may be zero to the exposure position and the alignment position.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Also, the position detecting means 11 and 12 of the substrate stage ST used for positioning on the exposure position, and the position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST to be used for detection of alignment information on the alignment position are arranged in such a manner that the Abbe error to exposure position and alignment position becomes almost zero.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Position detecting means 11 and 12 for the wafer stage ST, which are used for positioning at an exposure position and position detecting means 11 and 13 (11 and 14) for the wafer stage ST, which are used for alignment information detection at an alignment position, are so provided that Abbe error is almost zero relative to the exposure position and alignment position, respectively.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

To provide a beam radiation device and electron beam aligner wherein a beam is radiated to an object at high precision by measuring, at high precision, a relative positional relationship between the position of condense beam for work or detection and the position of laser beam emitted from a laser length-measuring device for eliminated Abbe error.例文帳に追加

加工用または検出用の集光ビームの位置とレーザ測長器から出射されるレーザ光の位置との相対的な位置関係を高精度に計測できるようにしてアッベ誤差を無くしてビームを被対象物に対して高精度に照射できるようにしたビーム照射装置および電子線露光装置を提供することにある。 - 特許庁