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意味・対訳 原子励起


日英・英日専門用語辞書での「atom excitation」の意味

atom excitation


「atom excitation」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

DEVICE AND METHOD FOR ANALYZING ATOM EXCITATION BEHAVIOR, ATOM EXCITATION CONTROLLER, ITS CONTROL METHOD, ISOTOPE SEPARATOR, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

原子励起挙動解析装置とその解析方法、原子励起制御装置とその制御方法、同位体分離装置および記憶媒体 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SURFACE NANOSCALE STRUCTURE BY ELECTRONIC EXCITATION ATOM MOVEMENT例文帳に追加

電子励起原子移動による表面ナノスケール構造の製造方法 - 特許庁

The atom excitation layer forming method forms an atom excitation layer, which covers a surface facing an internal space of a cell wall, by irradiating a cell having an internal space and equipped in the measurement device using optical pumping with a beam for forming an atom excitation layer and passing the beam for forming an atom excitation layer through the internal space along the surface facing the internal space of the cell wall.例文帳に追加

原子励起層形成装置は、光ポンピングを利用した測定装置が備える内部空間を有するセルに対して、原子励起層形成用ビームを照射して、前記セルの壁部の前記内部空間側の表面に沿って、前記内部空間に前記原子励起層形成用ビームを通過させることにより、前記セルの壁部の前記内部空間側の表面を覆う原子励起層を形成する。 - 特許庁

In the molecular beam epitaxial growth device having a high frequency discharge excitation atom cell, the high frequency discharge excitation cell has a magnetic field providing means with variable magnetic flux density to apply the magnetic field from a discharge chamber to the excitation atom excited in the discharge chamber.例文帳に追加

高周波放電励起原子セルを備える分子線エピタキシャル成長装置において、前記高周波放電励起原子セルが、その放電室内で励起された励起原子に放電室外から磁界を作用させる磁束密度可変の磁界付与手段を備えていることを特徴としている。 - 特許庁

The electric field layer forming device forms an electric field layer, which covers a surface facing an internal space of a wall, by irradiating a cell having an internal space and equipped in the measurement device using optical pumping with a beam for forming an atom excitation layer and passing the beam for forming an atom excitation layer while making total reflection in the wall of the cell.例文帳に追加

電界層形成装置は、光ポンピングを利用した測定装置が備える内部空間を有するセルに対して、電界層形成用ビームを照射して、前記セルの壁部内に前記電界層形成用ビームを全反射させながら通過させることにより、前記壁部の前記内部空間側の表面を覆う電界層を形成する。 - 特許庁

A treatment device composed of: an electron beam excitation ion source for generating nitrogen atom plasma with a high density and a high dissociation degree; a treatment tank for storing plasma and performing nitriding treatment; a vacuum system device; a heating apparatus; and a gaseous starting material system device is used.例文帳に追加

高密度・高解離度の窒素原子プラズマを発生させるための電子ビーム励起イオン源、プラズマを溜め窒化処理を行う処理槽,真空系装置,加熱装置,原料ガス系装置からなる処理装置を使用する。 - 特許庁

例文

A portion of an organic polymer film 6 is removed by locally irradiating the organic polymer film 6 with a laser beam by the use of an eximer laser excitation device 1, and then, a plasma treatment with a gas containing a nitrogen atom is carried out.例文帳に追加

有機高分子膜6に対してエキシマレーザ励起装置1を用いてレーザ光を局所的に照射することにより有機高分子膜6の一部を除去した後、窒素原子を含むガスによるプラズマ処理を行う。 - 特許庁

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「atom excitation」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

The film composed of the carbon-containing silicon oxide is produced through plasma excitation chemical vapor deposition process by using an organosilicon compound as a base material which has a structure in which alkoxyalkyl is directly bonded to a silicon atom, as shown below in formulae 1 and 4 for examples.例文帳に追加

アルコキシアルキルがケイ素原子に直結した構造を有する有機ケイ素化合物、例えば下式1、4を原料として用い、プラズマ励起化学気相成長法により炭素含有酸化ケイ素からなる膜を形成する。 - 特許庁

An atomic oscillator 1 includes: a first package 21 housing a gas cell 3 filled with a gaseous metal atom; a second package 22 housing a light emission section 6 for emitting excitation light LL for exciting the metal atom in the gas cell 3; and a third package 23 having at least one optical component 8.例文帳に追加

原子発振器1は、ガス状の金属原子を封入したガスセル3が収納された第1パッケージ21と、ガスセル3中の金属原子を励起する励起光LLを出射する光出射部6が収納された第2パッケージ22と、少なくとも1つの光学部品8が設けられた第3パッケージ23とを有している。 - 特許庁

The method includes: the step of separately supplying Zr(BH_4)_4 gas forced to go out by supplying Ar gas to a material tank TK from a massflow controller MFC1, and oxygen atom-containing gas activated by excitation in a microwave plasma source PL to a space on a surface of a substrate S through holes provided in a shower plate 36.例文帳に追加

マスフローコントローラMFC1から原料タンクTKにArガスを供給することによって押し出されたZr(BH_4)_4ガスと、マイクロ波プラズマ源PLで励起することによって活性状態にされた酸素原子を含むガスとを、シャワープレート36に設けられた複数の孔から別々に基板S表面の空間に供給する。 - 特許庁

例文

The method is for manufacturing the semiconductor device for forming a diffusion layer by diffusing the phosphorus atom on the surface of the silicon substrate with a resist coated, and has steps of forming the diffusion layer, keeping the temperature of the silicon substrate lower than the alteration temperature of the resist, and forming an oxide film by supplying a plasma excitation gas on the surface of the formed diffusion layer.例文帳に追加

レジストが塗布されたシリコン基板の表面にリン原子を拡散させて拡散層を形成する半導体装置の製造方法であって、シリコン基板の温度をレジストの変質温度よりも低く保ちながら拡散層を形成する拡散層形成工程と、形成した拡散層の表面にプラズマ励起ガスを供給して酸化膜を形成する酸化膜形成工程と、を有する。 - 特許庁

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