「atom excitation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A treatment device composed of: an electron beam excitation ion source for generating nitrogen atom plasma with a high density and a high dissociation degree; a treatment tank for storing plasma and performing nitriding treatment; a vacuum system device; a heating apparatus; and a gaseous starting material system device is used.例文帳に追加

高密度・高解離度の窒素原子プラズマを発生させるための電子ビーム励起イオン源、プラズマを溜め窒化処理を行う処理槽，真空系装置，加熱装置，原料ガス系装置からなる処理装置を使用する。 - 特許庁

A portion of an organic polymer film 6 is removed by locally irradiating the organic polymer film 6 with a laser beam by the use of an eximer laser excitation device 1, and then, a plasma treatment with a gas containing a nitrogen atom is carried out.例文帳に追加

有機高分子膜６に対してエキシマレーザ励起装置１を用いてレーザ光を局所的に照射することにより有機高分子膜６の一部を除去した後、窒素原子を含むガスによるプラズマ処理を行う。 - 特許庁

The film composed of the carbon-containing silicon oxide is produced through plasma excitation chemical vapor deposition process by using an organosilicon compound as a base material which has a structure in which alkoxyalkyl is directly bonded to a silicon atom, as shown below in formulae 1 and 4 for examples.例文帳に追加

アルコキシアルキルがケイ素原子に直結した構造を有する有機ケイ素化合物、例えば下式１、４を原料として用い、プラズマ励起化学気相成長法により炭素含有酸化ケイ素からなる膜を形成する。 - 特許庁

An atomic oscillator 1 includes: a first package 21 housing a gas cell 3 filled with a gaseous metal atom; a second package 22 housing a light emission section 6 for emitting excitation light LL for exciting the metal atom in the gas cell 3; and a third package 23 having at least one optical component 8.例文帳に追加

原子発振器１は、ガス状の金属原子を封入したガスセル３が収納された第１パッケージ２１と、ガスセル３中の金属原子を励起する励起光ＬＬを出射する光出射部６が収納された第２パッケージ２２と、少なくとも１つの光学部品８が設けられた第３パッケージ２３とを有している。 - 特許庁

The method includes: the step of separately supplying Zr(BH_4)_4 gas forced to go out by supplying Ar gas to a material tank TK from a massflow controller MFC1, and oxygen atom-containing gas activated by excitation in a microwave plasma source PL to a space on a surface of a substrate S through holes provided in a shower plate 36.例文帳に追加

マスフローコントローラＭＦＣ１から原料タンクＴＫにＡｒガスを供給することによって押し出されたＺｒ（ＢＨ_４）_４ガスと、マイクロ波プラズマ源ＰＬで励起することによって活性状態にされた酸素原子を含むガスとを、シャワープレート３６に設けられた複数の孔から別々に基板Ｓ表面の空間に供給する。 - 特許庁

The method is for manufacturing the semiconductor device for forming a diffusion layer by diffusing the phosphorus atom on the surface of the silicon substrate with a resist coated, and has steps of forming the diffusion layer, keeping the temperature of the silicon substrate lower than the alteration temperature of the resist, and forming an oxide film by supplying a plasma excitation gas on the surface of the formed diffusion layer.例文帳に追加

レジストが塗布されたシリコン基板の表面にリン原子を拡散させて拡散層を形成する半導体装置の製造方法であって、シリコン基板の温度をレジストの変質温度よりも低く保ちながら拡散層を形成する拡散層形成工程と、形成した拡散層の表面にプラズマ励起ガスを供給して酸化膜を形成する酸化膜形成工程と、を有する。 - 特許庁