coherence factorとは 意味・読み方・使い方

A factor computing unit 30 computes a first factor indicating a level of sign coherence in the sign data array and a second factor indicating a sign transit density in the sign data array.例文帳に追加

係数演算部３０は、符号データ列についての符号一様性及び素子配列方向における符号変化密度に基づいて、不要信号抑圧用の係数を演算する。 - 特許庁

A coherence factor multiplier 310c corrects the reception signal after phasing addition, by multiplying a coefficient, which is the coherence factor CF corrected by the limiter setting part 308c and the γ correction part 309c, by the reception signal after the phasing addition.例文帳に追加

コヒーレンスファクタ乗算器３１０ｃは、リミッタ設定部３０８ｃ及びγ補正部３０９ｃによって補正されたコヒーレンスファクタＣＦを係数として、整相加算後の受信信号に乗じることによって、整相加算後の受信信号を補正する。 - 特許庁

A first exposure is carried out by setting a lens numerical aperture NA at 0.6 and a coherence factor σ at 0.3 with each structure of an illumination system, a lens system and a stage system fixed.例文帳に追加

レンズ開口数ＮＡを０．６に、コヒーレンスファクターσを０．３にし、照明系，レンズ系，ステージ系の各機構を固定した状態で、第１回目の露光を行なう。 - 特許庁

To provide a crystallization apparatus in which a desired light intensity distribution can be generated even when a coherence factor is set to a relatively large value, and thus a crystal grain of any desired shape can be generated.例文帳に追加

コヒーレンスファクターを比較的大きい値に設定しても所望の光強度分布を生成することができ、ひいては所望形状の結晶粒を生成することのできる結晶化装置。 - 特許庁

To provide a method for setting a phase shift amount, with which phase errors are more reduced than in a conventional method even when an exposure condition of a large coherence factor σ and a large numerical aperture NA is adopted.例文帳に追加

コヒーレンスファクターσや開口数ＮＡが大きな露光条件を採用した場合であっても、位相誤差を従来よりも低減することを可能とする位相シフト量設定方法を提供する。 - 特許庁

Then, a lens numerical aperture NA is changed to 0.5 and a coherence factor σ is changed to 0.8 without changing an exposure position of an exposure object, and each structure of an illumination system, a lens system and a stage system is adjusted to minimize aberration under the conditions.例文帳に追加

次に、被露光体の露光位置を変えずに、レンズ開口数ＮＡを０．５に、コヒーレンスファクターσを０．８に変更して、照明系，レンズ系，ステージ系の各機構をこの条件下において収差が最小になるように調整する。 - 特許庁

To provide a method for scanning exposure by which multiple exposure can be performed even by means of a step-and-scan projection aligner and the coherence factor and exposure of a lighting system can be adjusted at every focal point needed for optimizing the multiple exposure and, in addition, the accuracy of pattern transfer can be improved.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁

Then, in an exposure device B, the same L/S pattern is formed using the same mask, and the coherence factor of the exposure device B is adjusted to achieve the condition that the dimensional difference becomes minimum between the line width PB in that L/S pattern and the line width PA in the L/S pattern formed in the exposure device A.例文帳に追加

次に、露光装置Ｂにおいて、同一のマスクを用いて同一のＬ／Ｓパターンを形成するとともに、当該Ｌ／Ｓパターンのライン幅ＰＢと、露光装置Ａで形成したＬ／Ｓパターンライン幅ＰＡとの間の寸法差が最小になる条件に、露光装置Ｂのコヒーレンスファクタを調整する。 - 特許庁