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「coherence factor」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > coherence factorに関連した英語例文

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coherence factorの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 15



例文

COHERENCE FACTOR ADAPTIVE ULTRASOUND IMAGING例文帳に追加

コヒーレンス度適応超音波撮像 - 特許庁

Specifically, SCF (Sign Coherence Factor) is used as the coefficient showing the sign uniformity.例文帳に追加

具体的には、符号一様性を示す係数としてSCF (Sign Coherence Factor)が用いられる。 - 特許庁

An illumination section 12 has a coherence factor (σ) set at 1 or more.例文帳に追加

照明部12は、コヒーレンスファクタ(σ)が1以上に設定されている。 - 特許庁

A limiter setting part 308c and a γ correction part 309c perform correction of the coherence factor CF calculated by the coherence factor calculating part 307c.例文帳に追加

リミッタ設定部308c及びγ補正部309cは、コヒーレンスファクタ算出部307cによって算出されたコヒーレンスファクタCFに対して補正を行う。 - 特許庁

例文

Based on reception signals obtained by a plurality of vibrators, a coherence factor calculating part 307c calculates the coherence factor CF which is the ratio of the coherent sum CS to the incoherent sum IS.例文帳に追加

コヒーレンスファクタ算出部307cは、複数の振動子によって得られた受信信号に基づき、インコヒーレントサムISに対するコヒーレントサムCSの割合であるコヒーレンスファクタCFを算出する。 - 特許庁


例文

Alternatively, the diameter of a lighting stop aperture 20 is changed to adjust the coherence factor.例文帳に追加

あるいは、照明絞りアパーチャ20の開口径を変更することで、コヒーレンスファクタの調整を行う。 - 特許庁

To suppress clutter using a coherence factor even to a non-convergent or weak convergent transmitting beam.例文帳に追加

非集束又は弱集束の送信ビームに対してもコヒーレンス度を用いたクラッタの抑制を可能にする。 - 特許庁

A factor computing unit 30 computes a first factor indicating a level of sign coherence in the sign data array and a second factor indicating a sign transit density in the sign data array.例文帳に追加

係数演算部30は、符号データ列についての符号一様性及び素子配列方向における符号変化密度に基づいて、不要信号抑圧用の係数を演算する。 - 特許庁

A coherence factor multiplier 310c corrects the reception signal after phasing addition, by multiplying a coefficient, which is the coherence factor CF corrected by the limiter setting part 308c and the γ correction part 309c, by the reception signal after the phasing addition.例文帳に追加

コヒーレンスファクタ乗算器310cは、リミッタ設定部308c及びγ補正部309cによって補正されたコヒーレンスファクタCFを係数として、整相加算後の受信信号に乗じることによって、整相加算後の受信信号を補正する。 - 特許庁

例文

A first exposure is carried out by setting a lens numerical aperture NA at 0.6 and a coherence factor σ at 0.3 with each structure of an illumination system, a lens system and a stage system fixed.例文帳に追加

レンズ開口数NAを0.6に、コヒーレンスファクターσを0.3にし、照明系,レンズ系,ステージ系の各機構を固定した状態で、第1回目の露光を行なう。 - 特許庁

例文

To provide a crystallization apparatus in which a desired light intensity distribution can be generated even when a coherence factor is set to a relatively large value, and thus a crystal grain of any desired shape can be generated.例文帳に追加

コヒーレンスファクターを比較的大きい値に設定しても所望の光強度分布を生成することができ、ひいては所望形状の結晶粒を生成することのできる結晶化装置。 - 特許庁

To provide a method for setting a phase shift amount, with which phase errors are more reduced than in a conventional method even when an exposure condition of a large coherence factor σ and a large numerical aperture NA is adopted.例文帳に追加

コヒーレンスファクターσや開口数NAが大きな露光条件を採用した場合であっても、位相誤差を従来よりも低減することを可能とする位相シフト量設定方法を提供する。 - 特許庁

Then, a lens numerical aperture NA is changed to 0.5 and a coherence factor σ is changed to 0.8 without changing an exposure position of an exposure object, and each structure of an illumination system, a lens system and a stage system is adjusted to minimize aberration under the conditions.例文帳に追加

次に、被露光体の露光位置を変えずに、レンズ開口数NAを0.5に、コヒーレンスファクターσを0.8に変更して、照明系,レンズ系,ステージ系の各機構をこの条件下において収差が最小になるように調整する。 - 特許庁

To provide a method for scanning exposure by which multiple exposure can be performed even by means of a step-and-scan projection aligner and the coherence factor and exposure of a lighting system can be adjusted at every focal point needed for optimizing the multiple exposure and, in addition, the accuracy of pattern transfer can be improved.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁

例文

Then, in an exposure device B, the same L/S pattern is formed using the same mask, and the coherence factor of the exposure device B is adjusted to achieve the condition that the dimensional difference becomes minimum between the line width PB in that L/S pattern and the line width PA in the L/S pattern formed in the exposure device A.例文帳に追加

次に、露光装置Bにおいて、同一のマスクを用いて同一のL/Sパターンを形成するとともに、当該L/Sパターンのライン幅PBと、露光装置Aで形成したL/Sパターンライン幅PAとの間の寸法差が最小になる条件に、露光装置Bのコヒーレンスファクタを調整する。 - 特許庁




  
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