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colloidal fluidとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 コロイド流体
「colloidal fluid」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
COLLOIDAL FLUID HAVING SHEAR VISCOSITY例文帳に追加
せん断粘稠性を有するコロイド状流体 - 特許庁
METAL COLLOIDAL PARTICLE AND FLUID DISPERSION THEREOF例文帳に追加
金属コロイド粒子およびその分散液 - 特許庁
METAL COLLOIDAL PARTICLE, PRODUCTION METHOD THEREFOR, FLUID COMPOSITION BLENDED THEREWITH, AND ELECTRODE FORMED BY USING THE FLUID COMPOSITION例文帳に追加
金属コロイド粒子及びその製造方法並びにそれを配合した流動性組成物、その流動性組成物を用いて形成した電極 - 特許庁
Useful fluid forming protective layers includes colloidal silica having small silver particles, hydrocarbon-based ink and dye.例文帳に追加
保護層を形成する有用な流体は、小さい銀の粒子を有するコロイダル・シリカ、炭化水素ベースのインク、および染料を含む。 - 特許庁
The colloidal fluid having shear viscosity essentially comprises whisker particles alone as the substance which exhibits shear viscosity.例文帳に追加
せん断粘稠性を発現する物質がウイスカ粒子のみから本質的になる、せん断粘稠性を有するコロイド状流体により、上記課題を解決する。 - 特許庁
Preferably fine abrasive is colloidal silica having a particle diameter ranging from 10 to 400 nm, and its solid content in the working fluid is 10 to 60 wt.%.例文帳に追加
好適には、微細砥粒は、粒子径が１０〜４００ｎｍのコロイダルシリカであり、加工液中に固形分で１０〜６０重量％含まれている。 - 特許庁
This fluid contains (a) a solution of a titania precursor containing a titanium complex anion coordinated with an aminopolycarboxylic acid and a dioxide ion and an amine cation, (b) a precursor of a metal oxide which forms an amorphous phase, and (c) colloidal silica.例文帳に追加
親水性被膜形成用コーティング液は、ａ）アミノポリカルボン酸及び二酸化物イオンが配位したチタン錯体陰イオンとアミン陽イオンとを含有するチタニア前駆体溶液、ｂ）非晶質相を形成する金属酸化物の前駆体及び、ｃ）コロイダルシリカを含有する。 - 特許庁
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「colloidal fluid」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
The sintered compact 9, having the PZT film formed thereon, is immersed into a fluid dispersion in which ultrafine independently dispersed particles of gold, silver, silver/ palladium alloy or the like having a particle diameters of 100 angstroms or less are present in a colloidal state in a surfactant solution.例文帳に追加
ＰＺＴ膜１３を形成した焼結体９を粒径が１００オングストローム以下の独立分散型の金、銀、銀・パラジウム合金等の超微粒子が界面活性剤からなる溶液中にコロイド状で存在する分散液に浸漬する。 - 特許庁
The polishing fluid composition contains colloidal silica, a sulfate compound expressed with the following general formula (I): R-O-(AO)n-SO_3M, hydroxy polyvalent carboxylic acid, and water.例文帳に追加
Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）ｎ−ＳＯ_3Ｍ （Ｉ）［式中、Ｒは炭素数３〜２０の炭化水素基を示し、ＡＯは炭素数２〜３のオキシアルキレン基を示し、ｎはＡＯの平均付加モル数であって１〜４であり、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、有機カチオン及び水素原子からなる群から選択される。 - 特許庁
The glass substrate for an electronic device is manufactured by pushing polishing surface plates 5 and 6 with a polishing pad 7 glued against the glass substrate and relatively moving the plates 5 and 6 and the glass substrate while feeding a polishing fluid containing colloidal silica abrasive grains thereby precision-polishing the substrate surface.例文帳に追加
研磨パッド７を貼着した研磨定盤５，６を電子デバイス用ガラス基板に押付け、コロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨定盤５，６と上記ガラス基板とを相対的に移動させて基板表面の精密研磨をすることにより、電子デバイス用ガラス基板を製造する。 - 特許庁
The lapping method laps the surface of a machining sample 10 formed of ceramics by using a grinding wheel 6, and a working fluid 5 containing colloidal silica (a liquid in which silica particles are distributed like colloid) is supplied between the machining sample 10 and the grinding wheel 6 to perform lapping.例文帳に追加
ラッピング加工方法は、セラミックスよりなる加工サンプル１０の表面を砥石６によりラッピング加工するラッピング加工方法であって、コロイダルシリカ（シリカ粒子がコロイド状に分布している液体）を含む加工液５を加工サンプル１０と砥石６との間に供給してラッピング加工する。 - 特許庁
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