current beam positionとは 意味・読み方・使い方

In this way, the current corresponding to the amount of compensation subject to D/A conversion applies to the exciting current of the beam position compensation coil 8.例文帳に追加

このようにしてＤ／Ａ変換された補正量に対応する電流がビーム位置補正コイル８の励磁電流に加えられる。 - 特許庁

To provide a device capable of enhancing uniformity of a two-dimensional ion beam current distribution at a substrate position.例文帳に追加

基板位置での２次元のイオンビーム電流分布の均一性を向上させることができる装置を提供する。 - 特許庁

The lens element 40 is set so that the current density distribution of the ion beam can be adjusted in a region near a focusing position 52 of the ion beam.例文帳に追加

レンズ要素４０は、イオンビームの収束位置５２の近傍の領域で、イオンビームの電流密度分布が調整されるようにレンズ要素４０が設けられている。 - 特許庁

To provide an ion implantation apparatus capable of improving uniformity of a beam current density distribution in the Y-direction of an ion beam in a ribbon shape at an injection position.例文帳に追加

注入位置でのリボン状イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を高めることができるイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

This system is constituted to carry out beam control of the headlamp with a one's own vehicle arriving position after a prescribed period of time after a current point as a target position TP1.例文帳に追加

現時点から所定時間後の自車到達位置を目標位置ＴＰ１として前照灯のビーム制御を行う構成とする。 - 特許庁

An electron beam is applied onto the specimen to be inspected while it is scanned, a current value generated in the specimen corresponds to the irradiation position of the electron beam at the time when the electron beam is applied, stored as a current waveform, and an incorrect position is detected by comparing the current waveforms of the two inspection specimens.例文帳に追加

被検査試料に対して電子ビームを走査させながら照射し、電子ビームが照射された際に試料に生じた電流値をそのときの電子ビーム照射位置と対応付けて電流波形として記憶し、二つの被検査試料に対する電流波形を比較することにより、不良位置を検出する。 - 特許庁

To improve the uniformity of an longitudinal direction (Y direction) ion beam current density distribution at an implantation position to a substrate.例文帳に追加

基板に対する注入位置での長手方向（Ｙ方向）のイオンビーム電流密度分布の均一性を向上させる。 - 特許庁

This ion beam irradiation device is equipped with an ion source to generate an ion beam 4, an electron beam source G to emit an electron beam two-dimensionally scanned in the ion source 2, a power supply 14 for it, an ion beam monitor 10 to measure the two-dimensional beam current distribution of the ion beam 4 at a position equivalent to the substrate, and a control device 12.例文帳に追加

このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４を発生するイオン源２と、イオン源２内で２次元で走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇと、それ用の電源１４と、基板相当位置におけるイオンビーム４の２次元のビーム電流分布を測定するイオンビームモニタ１０と、制御装置１２とを備えている。 - 特許庁