dielectric boundaryとは 意味・読み方・使い方

The ceramic electronic component (10) includes a first dielectric layer (11), a second dielectric layer (12), and a boundary reaction layer (13).例文帳に追加

本実施形態のセラミック電子部品１０は、第１の誘電体層１１と、第２の誘電体層１２と、境界反応層１３とを含むものである。 - 特許庁

The ceramic electronic component includes: a first dielectric layer containing a second dielectric layer containing a composition different from the first dielectric layer as major components BaO, Nd_2O_3 and TiO_2; and a boundary layer containing Zn and Ti which is formed between the first dielectric layer and the second dielectric layer.例文帳に追加

本発明によるセラミック電子部品は、ＢａＯ、Ｎｄ_2Ｏ_3、及びＴｉＯ_2を主成分として含む第１の誘電体層と、第１の誘電体層と異なる材質である第２の誘電体層と、第１の誘電体層と第２の誘電体層との間に形成された、Ｚｎ及びＴｉを含む境界層と、を含むものである。 - 特許庁

The laminated body 10 on which the second dielectric film 15 is formed is cut off at the boundary B between the adjacent element areas 11a to thereby form a plurality of the elastic boundary wave devices 16.例文帳に追加

第２の誘電体膜１５が形成された積層体１０を、隣り合う素子領域１１ａの境界Ｂで切断することにより弾性境界波装置１６を複数形成する。 - 特許庁

To reduce leakage current along a boundary of a particle 21 of the first dielectric material, the second material for forming non-conductive oxide or nitride having enthalpy lower than that of the first dielectric material is comprised, and arranged at the boundary of the particle of the first dielectric material.例文帳に追加

第１の誘電体材料の粒子２１境界に沿った漏洩電流が低減するように、前記第１の誘電体材料のエンタルピーより低いエンタルピーを有する非導電性の酸化物または窒化物を形成する第２の材料を含み、第１の誘電体材料の粒子境界に配置される。 - 特許庁

The thickness of a part located on a boundary B between adjacent element areas 11a of the first dielectric film 13 is reduced.例文帳に追加

第１の誘電体膜１３の隣り合う素子領域１１ａの境界Ｂ上に位置する部分の厚みを低減する。 - 特許庁

A method for embedding a thick-film capacitor includes a process for etching a foil electrode at the outside of the boundary of a capacitor dielectric layer in order to prevent the etching liquid from coming into contact with the capacitor dielectric layer and prevent the capacitor dielectric layer from being damaged.例文帳に追加

厚膜コンデンサを埋め込む方法は、エッチング液がコンデンサ誘電体層に接触しないように、かつコンデンサ誘電体層に損傷を与えないように、箔電極をコンデンサ誘電体の境界の外部でエッチングする工程を含む。 - 特許庁

Out of a plurality of dielectric particles 20 forming the dielectric layer 2, such particles as the thickness of grain boundary 22 existing between adjacent dielectric particles 20 is ≤1 nm has a ratio of 20-70% of the entire particles.例文帳に追加

誘電体層２を形成する複数の誘電体粒子２０のうち、隣接する誘電体粒子２０間に存在する結晶粒界２２の厚さが１ｎｍ以下である粒子の割合が全体の２０％以上７０％以下である。 - 特許庁

Out of a plurality of dielectric particles 20 forming the dielectric layer 2, such particles as the thickness of grain boundary 22 existing between adjacent dielectric particles 20 is ≤1 nm has a ratio of 30-95% of the entire particles.例文帳に追加

誘電体層２を形成する複数の誘電体粒子２０のうち、隣接する誘電体粒子２０間に存在する結晶粒界２２の厚さが１ｎｍ以下である粒子の割合が全体の３０％以上９５％以下である。 - 特許庁