drawing a blankとは 意味・読み方・使い方

Also, when drawing a blank is determined by the drawing for the normal symbol, the start area is kept closed.例文帳に追加

また、普通図柄の抽選によりハズレが決定された場合には始動領域が閉じられたままとなる。 - 特許庁

To provide a mask blank for drawing an electron beam capable of forming a three-dimensional resist pattern by one time drawing.例文帳に追加

１度の描画で立体的なレジストパターンを形成することができる電子線描画用マスクブランクを提供する。 - 特許庁

To perform the drawing work of a complicated shape because press drawing work can be performed in the state where a blank is pinched at a proper pressure by a punch and the liquid in a working hole part when the punch is lowered for drawing the blank and the generation of breakage of the blank, wrinkles and reducing marks on the blank can be suppressed.例文帳に追加

ポンチの絞り加工降下時に、ブランクをポンチと加工用穴部内の液体とで適正圧力で挟圧した状態でプレス絞り加工を行うことができ、ブランクの割れ、しわ、絞り傷の発生を抑制することができ、複雑な形状の絞り加工を行うことができる。 - 特許庁

A server 21 generates a blank layout drawing optimum to cut an un-machined standard-length pipe in accordance with a size to be machined on the basis of a pipe production drawing, and transmits information including the blank layout drawing and a material identification number applied to each the pipe cut on the basis of the blank layout drawing.例文帳に追加

サーバ２１が、配管製作図に基づき未加工の定尺配管を加工する寸法に合わせて切断するために最適な板取図を生成し、当該板取図と、板取図に基づき切断される個々の配管に付与される材料識別番号と含む情報を送信する。 - 特許庁

A recessed side drawing bead 6 is arranged to a die device 4 arranged corresponding to the edge part of a blank to be formed by a die device for press forming, A projecting side drawing bead 7 holding the recessed side drawing bead 6 and the blank edge is formed to a blank holder die 3.例文帳に追加

プレス成形用金型装置により成形されるブランクの縁部に対応して配設されるダイス金型４に、凹側絞りビード６が設けられ、該凹側絞りビード６とともにブランクの縁部を挟持する凸側絞りビード７をブランクホルダ金型３に形成している。 - 特許庁

A CPU 72 checks, when a drawing of big hit or blank is performed (s402: YES), the drawing result (s403).例文帳に追加

ＣＰＵ７２は、大当りかはずれかの抽選が行われたら（ｓ４０２：ＹＥＳ）、この抽選結果をチェックする（ｓ４０３）。 - 特許庁

The electron beam lithography is for drawing a specified pattern on a blank with an electron beam scanned over the blank.例文帳に追加

基材に対して電子ビームを走査することにより前記基材に所定の描画パターンを描画する電子ビーム描画である。 - 特許庁

A pattern image is drawn on a mask blank after a photoresist is applied thereon, in a drawing chamber 100a in a vacuum state of a drawing means 100.例文帳に追加

描画手段１００の真空状態にある描画チャンバ１００ａ内でフォトレジスト塗布後のマスクブランク上にパターン像を描画する。 - 特許庁