heat development typeとは 意味・読み方・使い方

To provide an alkaline development type photosensitive resin composition which has excellent photosensitivity, developability and heat resistance and is adequately usable for a solderless resist ink to be developed by a dilute aqueous alkaline solution.例文帳に追加

感光性、現像性、耐熱性に優れ、希アルカリ水溶液で現像するソルダーレジストインキに好適に用いることができるアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

After a heat treatment for releasing a protective group from a substrate resin, and prior to the development, a water soluble protective film 4 is formed on a positive type chemical sensitization resist 2.例文帳に追加

基材樹脂から保護基を離脱させる熱処理を行う工程の後、現像を行う前に、水溶性の補強用膜４を前記ポジ型化学増幅レジスト２上に形成する。 - 特許庁

The substrate is etched with the positive type resist as mask by a heat treatment, full-surface exposure and development processing while the resist on recorded and exposed parts is made to remain after signal recording of the resist on the substrate.例文帳に追加

基板上のポジ型レジストの信号記録後、熱処理と全面露光及び現像処理により記録露光部のレジストを残し、上記レジストをマスクにして基板をエッチングし、基板を直接スタンパーにする。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high exposure sensitivity to i-line, forming a fine pattern free from peeling particularly in development and excellent in heat resistance, a method for producing a pattern using the composition and electronic parts.例文帳に追加

ｉ線に対する露光感度が高く、特に現像時に微細パターンの剥離の無い、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造法の提供。 - 特許庁

To provide an original plate for a heat more type lithographic printing plate having excellent plate wear resistance and small printing scumming on a printing surface capable of directly mounting in a printer without a process for development after scanning exposure in a short time adapted to a heat mode type engraving system using a laser exposure.例文帳に追加

レーザー露光を用いるヒートモードの製版方式に適した、短時間での走査露光ののちに現像処理を行うことなく直接に印刷機に装着して製版することが可能であり、耐刷性にすぐれ、印刷面上の印刷汚れも少ないヒートモード型の平版印刷版用原板を提供する。 - 特許庁

This cooling device for the communication relay station is composed of an open-type compressor 15a, an AC electric motor 15d driving the open-type compressor 15a, an outdoor heat exchanger 15b, a pressure reducing mechanism, and an indoor heat exchanger 4a, thus the general-purpose electric motor of high availability can be used, and development costs can be reduced.例文帳に追加

開放型コンプレッサー１５ａと、開放型コンプレッサー１５ａを駆動する交流電動機１５ｄと、室外熱交換器１５ｂと、減圧機構と、室内熱交換器４ａとから構成することで、電動機として調達性の良い汎用のものを流用できることから、開発コストを抑制することができる。 - 特許庁

To provide a composition for alkali development type resist ink which can respond to direct exposure technique by laser and which has super-high sensitivity exhibiting excellent curing properties even with low exposure energy, coating hardness and a wide heat management width, and to provide a vinyl ester resin which can give such properties to the composition for alkali development type resist ink.例文帳に追加

レーザー光による直接露光方式へ対応可能で、かつ、低露光エネルギーであっても優れた硬化性を発現する超高感度性と、塗膜硬度と、広い熱管理幅とを兼備したアルカリ現像型レジストインキ用組成物を提供すること、並びにこのような特性をアルカリ現像型レジストインキ用組成物に付与し得るビニルエステル樹脂を提供すること。 - 特許庁

A substrate coated with a negative type photoresist is rotated and is continuously subjected to surface exposure, heat treatment, development by a dry process, etching and resist removal, thereby, signal projections are formed on the substrate surface and the substrate is worked to have a stamper size.例文帳に追加

ネガタイプフォトレジストを塗布した基板を回転させ、表面露光、加熱処理、ドライプロセスによる現像及びエッチング及びレジスト除去を連続して行い、基板表面に信号突起を形成し、スタンパーサイズに加工する。 - 特許庁