imprint uponとは 意味・読み方・使い方

In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint.例文帳に追加

パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

To prevent adhesion of a disk material to a stamper upon embossing in manufacturing a disk for discrete recording by an imprint lithography.例文帳に追加

インプリント・リソグラフィでディスクリート記録ディスクを作成するときに、エンボス時にディスクの材料がスタンパにくっつかないようにする。 - 特許庁

This imprint lithography method includes: bringing an imprint template into contact with an imprintable medium provided on a substrate; and guiding actinic radiation at the imprintable medium, the actinic radiation being oriented such that it is not perpendicularly incident upon a patterned surface of the imprint template.例文帳に追加

インプリントテンプレートを基板上に設けられたインプリント可能媒体に接触させることと、化学線をインプリント可能媒体に誘導することと、を含むインプリントリソグラフィ方法であって、化学線は、インプリントテンプレートのパターン付けされた表面に垂直に入射しないように方向付けられる、インプリントリソグラフィ方法、が開示される。 - 特許庁

An imprint system 1 has a configuration connecting together the followings: a wafer carry-in-and-out station 2; a wafer processing station 3 which forms a first resist film on a wafer W; an imprint processing station 4 which forms a second resist film on the wafer W and a prescribed resist pattern upon the second resist film; and a template carry-in-and-out station 5.例文帳に追加

インプリントシステム１は、ウェハ搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に第１のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション３と、ウェハＷ上に第２のレジスト膜を形成し、当該第２のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション４と、テンプレート搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁

An imprint material 11 has a resin 11, that receives energy in contact with a convexo-concave pattern of a template 20 and is hardened, from a liquid state and a plurality of fine particles 13 which are contained in the resin 11 in a solid state, and have a volume shrinkage ratio that differs from that of the resin 11 upon receiving the energy.例文帳に追加

インプリント材１１は、テンプレート２０の凹凸パターンと接触された状態でエネルギーを受けて、液体の状態から硬化される樹脂１１と、樹脂１１中に固体の状態で複数含有され、エネルギーを受けたときの体積収縮率が樹脂１１とは異なる微粒子１３と、を備えた。 - 特許庁