lamp CVDとは 意味・読み方・使い方

LAMP HEATING TYPE THERMAL CVD APPARATUS例文帳に追加

ランプ加熱型サーマルＣＶＤ装置 - 特許庁

A lamp 10 is installed outside a furnace body 3 of a hot-wall type CVD system.例文帳に追加

ホットウォール型ＣＶＤ装置の炉体３外部にランプ１０を設置する。 - 特許庁

DC PLASMA CVD APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD USING THE SAME, AND WIRE-SHAPED CATHODE FOR FIELD EMISSION TYPE LAMP例文帳に追加

直流プラズマＣＶＤ装置および該直流プラズマＣＶＤ装置を用いた成膜方法ならびにフィールドエミッション型ランプ用ワイヤ状陰極 - 特許庁

In plasma CVD device, at least one partial surface shape of the cathode 2 installed within the reactive chamber must be in consistent with that for the plastic parts of the vehicle lamp lens, etc.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置において、反応室１内に設けられたカソード２の少なくとも一部の表面形状は自動車用ランプのレンズ１０等のプラスチック部品の表面形状に一致した表面形状とする。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a chamber for a single wafer CVD capable of suppressing the generation of cleaning residues at an exit and suppressing a mound and a slip occurring in a lamp heating type growth system.例文帳に追加

出口部での清掃残りの発生を抑制し、マウンドやランプ加熱式成長装置の場合のスリップを抑制可能な枚葉式ＣＶＤ用チャンバのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

It is coupled with a chamber 3 for introducing a sample, a gate precleaning chamber 4, a lamp heating or electrical heating gate oxidation furnace 5, a gate deposition furnace 6 by CVD, a physical analysis chamber 7, and a gate electrode deposition furnace 8 by CVD, wherein the physical analysis chamber 7 is coupled with a spectrum analyzer 9.例文帳に追加

サンプル導入用のイントロ室３、ゲート前洗浄室４、ランプ加熱式または電気加熱式のゲート酸化炉５、化学気相蒸着法等によるゲート堆積炉６、物理分析室７、化学気相蒸着等によるゲート電極堆積室８と接続され、上記物理分析室７はスペクトル解析装置９と繋がっている。 - 特許庁

In a vacuum ultraviolet light CVD system, a light-shielding mask 19 for reducing the illuminance of vacuum ultraviolet light in the central part of a semiconductor wafer 11 is arranged between a lamp house 15 for illuminating a uniform illuminance distribution of the vacuum ultraviolet light to the surface of this semiconductor wafer 11 and a glass window 14.例文帳に追加

半導体ウエハ１の表面に均一な照度分布の真空紫外光を照射するランプハウス１５と、ガラス窓１４との間に、この半導体ウエハ１の中央部における照度を低下させるための遮光マスク１９を配置する。 - 特許庁