laser applied measurementとは 意味・読み方・使い方

Measurement needles 461 and 471 are respectively brought into contact with surface electrodes 462 and 472 of adjoining semiconductor optical elements 46 and 47, and a forward bias is applied to a first semiconductor laser 46 to cause light emission (oscillation), and then a reverse bias is applied to a second semiconductor laser 47 to make it receive light, thereby measuring the luminescence property of the first semiconductor laser 46 through the second semiconductor laser 47.例文帳に追加

隣接する半導体光素子４６，４７の表面電極４６２，４７２各々に測定用ニードル４６１，４７１を接触させて、第一の半導体レーザ４６に順方向バイアスを印加して発光（発振）させ第二の半導体レーザ４７に逆方向バイアスを印加して受光させることにより、第一の半導体レーザ４６の発光特性を第二の半導体レーザ４７により測定する。 - 特許庁

In the measurement of flow rate, when a laser beam is applied to the laser light absorption film 18 of the piezoelectric plate 14, for example, for specific time, a temperature change curve where cooling by the mass flow rate of fluid is applied results, so that the oscillation frequency of the piezoelectric plate 14 also follows the curve and changes, and the flow rate is measured based on the temperature change characteristics.例文帳に追加

流量測定に際して、圧電板１４のレーザー光吸収膜１８にレーザー光を例えば所定時間照射すると、流体の質量流量による冷却が加わった温度変化曲線になるので、圧電板１４の発振周波数もそれに追従して変化し、この温度変化特性を基に流量を測定する。 - 特許庁

The measurement system 1 includes: a laser plumb gauge 4 for vertically applying laser beams into the steel plate 2; a target 5 which is installable at an optional depth position within the steel plate 2 and receives laser beams emitted from the laser plumb gauge 4; an imaging apparatus 6 for photographing arrival positions of laser beams applied onto the target 5; and a display device 7 for displaying an image photographed by the imaging apparatus 6.例文帳に追加

計測システム１は、鋼管２内にレーザー光を鉛直に照射するためのレーザー鉛直器４と、鋼管２内の任意の深さ位置に設置可能で、レーザー鉛直器４から照射されるレーザー光を受光するためのターゲット５と、ターゲット５上に照射されたレーザー光の到達位置を撮影するための撮像装置６と、撮像装置６により撮影した映像を表示するための表示装置７と、を備える。 - 特許庁

To provide a measuring method for measuring and determining a deviation between a measuring reference location and a measured location using a jig such as a laser pointer, a horizon indicator, a perpendicular indicator and eliminating a necessity for setting a measuring environment for implementing steric measurement such as an identification of the designated measured location, and a mouse to which the method is applied.例文帳に追加

レーザーポインター・水平儀・垂直儀などの冶具を用いて、計測基準位置と計測位置との偏差を計測して求め、指定された計測位置を特定するなどの立体計測を実行するための計測環境を設定する必要がない計測方法及びこれを適用したマウスを提供する。 - 特許庁

In measuring the machanical parameters to calculate the mechanical deflection at each machine location in order to give the correction value during the bending, the deflection that a reference point S of measurement preset at each machine location of a press brake 1 is moved when the bending load is applied is measured by a laser length measuring device 21.例文帳に追加

曲げ加工時に補正値を与えるべく各機械部位における機械的なたわみ量を算出するための機械パラメータを測定する際に、プレスブレーキ１の各機械部位に予め設けた計測基準点Ｓが曲げ荷重による加圧時に移動するたわみ量をレーザ測長器２１にて計測する。 - 特許庁

A trigger pulse optimum delay time is prepared by measuring the time between the first pulse emission and the reception of light scattered by the object and by calculation with time delays in the measuring system elements taken into consideration, and is applied to the fluorescent image measurement by the 2nd laser pulse emission.例文帳に追加

第１のレーザパルス発射から対象物からの散乱光受光までの時間を測定し、計測系要素の遅延時間を含めて勘案して演算することによりトリガーパルスの最適遅延時間を準備しておき、第２のレーザパルス発射による蛍光画像計測においてこれを適用する。 - 特許庁